中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9036092 を販売中

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フォト（写真） 使用される AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 販売のために
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販売された
リアクター
製造業者
AMAT / APPLIED MATERIALS
モデル
Endura 5500
ID: 9036092
PVD System, 8" Wafer handling: SMIF Front panel type: wide body Software version: B88810 Single board computer in controller: Yes Ion gauges: Yes Robots (standard, HP, HP+, VHP, etc): Buffer robot: HP+ Transfer robot:HP+ Blade material: Metal Blade material: Metal Load Lock: Wide Body Narrow Body: tilt-out Index handler type: Loadlock vents: N2 vent Basic Chamber setup: (PC II, Cooldown, O/D, pass through, CVD, other - w/o details) A: Cool down B: Cool down C: Pre clean II D: Pre clean II E: Orient / Enhanced degas F: Orient / Enhanced degas Process: VECTRA IMP Ti Platform: Endura RF coil power supply: Advance Energy HFV 8000 Chamber temperature: Heater 100°C - Bake 30% Pump Type: CTI 8F Enhanced Fast Regen Low Vib MFC #1: Argon Heater MFC #1 type / size: Stec SEC-4400M 50 Sccm MFC #2: Argon Final MFC #2 type / size: Stec SEC-4400M 100 Sccm Source type: Vectra IMP Target type / vendor: D-Bond 0.25" - Honeywell Target part # 7VX00236 Coil part # 7VX20266 Magnet type / part number: Type RH-2 P/N 0010-21676 Ar Psi: 20 PSI Power supply: MDX 12KW Shutter: Linkage Heater: Original 4F Process Kit (type/desc): IMP Process Kit Version 4.5 Upper Shield Part No: 0020-22498 Lower Shield Part No: 0020-22499 Shield Clamp Kit Part No: 0240-25440 DC Bias Hardware Kit PN: 0240-20021 Process: CVD TiN Platform: ENDURA Chamber temperature: 400°C Chamber type: TxZ HP+ Heater: AMAT P/N 0010-03244 Pump Type: ALCATEL 602 P HX: AMAT 1 HX temperature: 60°C MFC #1: Argon Edge Purge MFC #1 type / size: Stec SEC-4400M 3000 Sccm MFC #2: Argon BTPur MFC #2 type / size: Stec SEC-4400M 2000 Sccm MFC #3: He Carrier MFC #3 type / size: Stec SEC-4400M 500 Sccm MFC #4: N2 Dil MFC #4 type / size: Stec SEC-4400M 1000 Sccm MFC #5: He Dil MFC #5 type / size: Stec SEC-4400M 1000 Sccm MFC #6: N2 MFC #6 type / size: Stec SEC-4400M 1000 Sccm RF Power supply: ADVANCE ENERGY PDX 900-2V HE carrier pressure: 18 PSI HE DIL pressure: 30 PSI Ampole temperature: 50°C Gas line temperature: 60°C Hot Box: 70°C CVD Ion gauge: Absent Process Kit (type/desc) INSERT LINER EXHAUST TXZ 200MM: 0021-02469 RING, LOWER, ISOLATOR: 0021-02155 RING, MIDDLE, ISOLATOR: 0021-02156 EDGE RING, PURGE HEATER, 200MM TXZ: 0021-03094 SCREW, CENTERING PURGE HEATER 200MM TXZ: 0021-07418 OUTER SHIELD W/O WINDOW, TXZ CHAMBER: 0021-03980 INNER SHIELD HP TXZ IMP. UNIF.: 0040-06127 PIN, LIFT, TXZ HEATER: 0200-01798 PLATE,BLOCKER,TXZ 200MM: 0021-35744 FACE PLATE, BKM3 TXZ 200MM: 0040-01878 CHAMBER INSERT 200MM TXZ CIP: 0200-00261 ISOLATOR, SIN, ENH, PUMPING LID, DXZ GECO: 0200-10163 TUBE GAS FEED: 0020-31425 LID LINER, HPTXZ: 0200-00689 Process: PVD TiN Platform: ENDURA Ch temp control: Without temp control Chamber type: WB Pump Type: CTI 8F Enhanced Fast Regen Low Vib MFC #1: Argon MFC #1 type / size: Stec SEC-4400M 100 Sccm MFC #2: N2 MFC #2 type / size: Stec SEC-4400M 200 Sccm Source type: G-12 Target type / vendor: D-Bond 0.35" - Praxair Target part #: 7VX00135 Magnet type / part number: Type G-12 P/N 0010-20768 N2 Psi: 20 PSI Ar Psi: 20 PSI Power supply: MDX - L12M - 650 Shutter: Linkage Heater: SST Pedestal Unclamped 101 Process Kit (type/desc): Shield Mounting G12 btn hd Upper Shield Part No: 0020-25730 Lower Shield Part No: 0020-25077 Pedestal Part No: 0021-22028 Cover Ring Part No: 0020-24914 Process: Pre-clean Pedestal type: Preclean II Pik1 Power supply 1: 400 KHz Power supply 2: 13.56 MHz Gasline fittings: VCR Loadlock fittings: VCR MFC type: Millipore / STEC Paste chamber: NA Chamber cryo pump type: CTI 8F Enhanced Fast Regen Low Vib Umbilicals: Mainframe to controller: ~25 ft Mainframe to generator racks: ~25 ft Mainframe to cryo compressor: ~25 ft Main AC to system controller/sys. AC: ~25 ft Syst cont/sys AC to primary Gen rack: ~25 ft Main AC to primary generator rack: ~25 ft Main AC to pump frame: ~25 ft Main AC to Neslab heat exchanger: ~25 ft Monitor cable: ~25 ft Monitor2 cable: ~25 ft Monitor3 cable: ~15 ft EMO button guard ring: Yes Water leak detector: yes Buffer and transfer lid hoist: Yes Support Equipment: AMAT 0 Heat exchanger 0010-76467 Cryo compressors: (2) CTI Cryo pump 1 8135900G001 Neslab with resistivity meter Soft copy pdf manuals Currently in a fab 2003 vintage.
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AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reactorは、高度で費用対効果の高い多目的クラスタツールであり、要求の厳しいウェーハ製造プロセスのパフォーマンス要件を向上させます。この原子炉は、エッチングおよび蒸着プロセス中に信頼性の高い均一な環境を提供することができます。AKT Endura 5500 Reactorは、優れたガス配分と様々なオプションを備えた高度な真空装置を使用して、シングル、デュアルおよびマルチチャンバー動作用に特別に設計されています。AMAT ENDURA 5500は、最小限のスペースと3立方メートル未満を必要とするコンパクトな設計で構築されており、あらゆる工程に簡単に収まることができます。AKT ENDURA 5500は、立体的な位置決めを容易にすることができ、セットアップと実行がより効率的で簡単になります。APPLIED MATERIALTS Endura 5500には独自の冷却システムも搭載されています。この多目的クラスタツールは、エッチングと蒸着プロセスのオプションも提供します。Endura 5500にはモジュラーエッチングと蒸着チャンバーの設計が含まれており、同じ空間でエッチングが行われるように蒸着を行うことができます。この多目的機能により、1つの原子炉で多種多様なプロセスを完了することができます。Endura 5500Reactorは、優れた性能と耐久性で低コストかつ低メンテナンスを提供します。ガスデリバリーユニットは、スループットの向上と製品歩留まりの向上に貢献しています。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500の高真空機能は、ウェーハエッジ効果を排除しながら、品質と再現性を向上させます。ENDURA 5500には、エッチングと蒸着の両方のプロセスに高いレベルの制御と精度を提供する幅広い制御オプションが付属しています。この原子炉には、プロセス制御機とオペレータパネルの両方があり、オペレータの利便性が向上しています。制御ツールは、迅速なプロセス開発、高性能、精度で複数のプロセスパラメータを管理できます。応用材料ENDURA 5500の高度な機能とコンパクトなデザインは、多くのアプリケーションに最適です。その柔軟性と簡単なインストールにより、最適化された結果と優れたパフォーマンスを提供しながら、あらゆるプロセスに統合することができます。エッチングから成膜まで、低コスト、高い再現性、スループットの向上であらゆる処理が可能です。
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