中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9004064 を販売中
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ID: 9004064
ウェーハサイズ: 8"
HP PVD system, 8"
Wafer type: notch
Buffer robot type: HP
Transfer robot type: HP
Buffer robot blade: metal
Wafer sensors: cassette
Loadlock type: Narrow body with tilt
Fab installation: TTW
Transfer robot blade: metal
Software revision E8.86
Signal tower: Red-amber-green
System umbilicals: 50 ft standard
EMO's: momentary
Loadlock slit valve O rings: Viton (black)
No heat exchangers
Hard drive: 5 Gb
Chamber 2: PVD wide body
Process 2: PVD sputter
Susceptor / pedestal: 101
Process kit type: other
Manometer config: Single
Lid type: 11.3
Wall cooling: None
Manometer 1: 100mTorr
Throttle valve: none
Heater / cathode cooling: other
Pump configuration: Cryo
Manometer 2: None
RF gen / DC supply: AE MDX-L6
Endpoint system: No
Turbo pump: No
Slit valve oring: Viton black
Heated valve stack: No
Chamber orings: Viton brown
RF match: None
Chamber lid clamps: yes
Magnet number: 0010-20328
Chamber gases:
Gas 1 50sccm Nitrogen, STEC 4400 MC mtl seal, MFC18, Standard gas stick configuration
Gas 2 140sccm Argon, STEC 4400 MC mtl seal, MFC19, Standard gas stick configuration
Gas valves: Nupro
Chamber 3: PVD wide body
Process 3: PVD sputter
Susceptor / pedestal: 101
Process kit type: other
Manometer config: Single
Lid type: 11.3
Wall cooling: other
Manometer 1: 100mTorr
Throttle valve: none
Heater / cathode cooling: other
Pump configuration: Cryo
Manometer 2: None
RF gen / DC supply: AE MDX-L6
Endpoint system: No
Turbo pump: No
Slit valve oring: Viton black
Heated valve stack: No
Chamber orings: Viton brown
RF match: None
Chamber lid clamps: yes
Magnet number: 0010-20328
Chamber gases:
Gas 1 140sccm Argon, STEC 4400 MC mtl seal, MFC2, Standard gas stick configuration
Gas 2 100sccm Nitrogen, STEC 4400 MC mtl seal, MFC3, Standard gas stick configuration
Gas valves: Nupro
Chamber 4: PVD wide body
Process 4: PVD sputter
Susceptor / pedestal: 101
Process kit type: other
Manometer config: Single
Lid type: 11.3
Wall cooling: other
Manometer 1: 100mTorr
Throttle valve: none
Heater / cathode cooling: other
Pump configuration: Cryo
Manometer 2: None
RF gen / DC supply: AE MDX-L6
Endpoint system: No
Turbo pump: No
Slit valve oring: Viton black
Heated valve stack: No
Chamber orings: Viton brown
RF match: other
Chamber lid clamps: yes
Magnet number: 0010-01198
Chamber gases:
Gas 1 140sccm Argon, STEC 4400 MC mtl seal, MFC5, Standard gas stick configuration
Gas 2 50sccm Nitrogen, STEC 4400 MC mtl seal, MFC6, Standard gas stick configuration
Gas valves: Nupro
Chamber A: Pass through
Gas valves: Nupro
Slit valve oring: Viton black
Chamber orings: Viton black
Chamber B: Cooldown
Gas valves: Nupro
Slit valve oring: Viton brown
Manometer: None
Heater / cathode cooling: PCW
Chamber pump: Edwards
Chamber orings: Viton black
No turbo pump
Chamber E: Orienter / Degas
Chamber F: Orienter / Degas
AC Rack damaged during transport
1995 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500は、半導体部品およびシステムの製造に使用される重要なツールです。主に、さまざまな業界標準を満たす高耐久性、低消費電力の部品やデバイスを作成するために使用されます。AKT Endura 5500は、市場の他の多くのツールと比較してパフォーマンスと信頼性が向上しているため、多くのウェーハ製造プロセスに最適です。AMAT ENDURA 5500は、複数のウエハサイズに対応できる単室水平型リアクタです。高速で高精度なプラズマエッチングと蒸着プロセス用に設計されています。装置は、エッチング速度と効率を向上させるように設計されたチャンバー下部にガス噴射ノズルを使用しています。AMAT Endura 5500の砲塔には、ロードロックとガスインジェクションポートが組み合わされており、手動操作と比較して高速で低コストのローディングとアンロードが可能です。このシステムには、再現可能なプロセスサイクルとスループットの向上を可能にする「コイル・ツー・ウェーハ」モードなど、いくつかの異なる動作モードがあります。応用材料Endura 5500は真空の完全性のために設計されている高級な水晶部屋およびふたが装備されています。このチャンバーは、幅広い圧力と温度をカバーしながら、低粒子レベルで高精度の蒸着およびエッチング処理を可能にします。ユニットはまた、ウェーハ製造プロセスのすべての部分を処理するための自動制御モードと手動制御モードの両方を含む強力なプログラマブルコントローラで構築されています。ENDURA 5500はさらに歩留まりを改善するように設計された高度なウェーハ洗浄機も備えています。高速回転する特殊なパワー駆動ブラシを採用し、ウェハ表面の粒子を効率的に除去します。このツールには、安全なウェハクリーニングとバーンインプロセス制御を確実にするために迅速に応答するリアルタイムのパーティクルモニタも含まれています。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500は、最先端の半導体デバイスのサブミクロン精密加工のための非常に信頼性の高いツールです。ハイスループットのシングルウェーハプロセスで高品質のパフォーマンスを提供し、ウェーハの製造作業に経済的な選択肢となります。この資産は、長年にわたり正確かつ正確な動作を保証できる高耐久性、低電力部品で構築されています。
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