中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #190624 を販売中
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販売された
ID: 190624
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1991
PVD Sputtering system, 6"
Chamber Type: 4 Chamber (1 Standard Body, 3 Wide Body), Pre-Clean 1 Type
Process: Al, Ti, TiN
No missing parts
1 STD-Ti (clamp)
2 Wide-AL (A101)
3 Wide-AL (A101)
4 STD-Ti (clamp)
5 -
A pass
B cool
C PC2
D PC2
E orienter-degas
F orienter-degas
Buffer HP
Xfer HP
LL narrow
Magnet dura and G12
1991 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500は、半導体市場における幅広い用途向けに設計された汎用性の高い原子炉です。これは、化学蒸着(CVD)、エッチング、酸化、拡散などのさまざまなプロセスで使用されます。AKT Endura 5500は、その場での急速な熱処理能力と比類のない温度均一性を備えた熱処理装置です。1700°C (3100°F)までの高温範囲を有し、先進的な半導体材料に適しています。この原子炉は、材料沈着プロセス制御を改善するためのデュアルプラズマ動作機能を備えて設計されています。また、イオンビーム蒸着技術によりウェーハ上の精密な蒸着均一性を実現しています。AMAT ENDURA 5500は5。7インチのウェーハ容量を持ち、2つの独立した加熱ゾーンを備えています。これにより、ウェーハ全体で均一な熱プロファイルを達成することができます。AMAT Endura 5500には、優れた熱管理と均一性を提供するグラファイトサセプターも装備されています。AKT ENDURA 5500は、コンピュータ化されたシステムと専用の使いやすいソフトウェアを備えた自動化されたプロセス制御も備えています。このユニットは、一貫したプロセス性能と迅速なプロセス時間を提供し、静電チャックウェーハホルダーは、高いレベルのウェーハ平坦性と優れた均一性を提供します。Endura 5500のその他の主な機能には、カセットからカセットへの転送機と、ウェハマッピングのための統合されたウェハマッピング機能があります。さらに、原子炉はコンフォーマルコーティングチャンバーを備えており、低K材料のコンフォーマルコーティング品質を向上させています。応用材料ENDURA 5500リアクターは、業界をリードする卓越したレベルの温度制御と均一性を備えており、さまざまなアプリケーションに最適なプロセス性能を提供します。次世代半導体デバイス向けの先端材料をはじめ、様々な材料の加工に最適です。堅牢な設計と最先端の技術と使いやすさにより、半導体アプリケーションに最適です。
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