中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #190620 を販売中
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販売された
ID: 190620
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1995
PVD Sputtering system, 8"
Chamber Type: 4 Chamber (1 Standard Body, 3 Wide Body), Pre-Clean 1 Type
Process: Al Cu, Ti, TiN
Wafer size: 8" / JMF
Configuration:
Chamber A: Pass through
Chamber B: Cool down
Chamber D: Preclean I
Chamber F: Orienter degas
Chamber 1: ALCu (clamp)
Chamber 2: TiN (101)
Chamber 3: Ti (101)
Chamber 4: Ti (clamp)
Robot:
Buffer: HP
Transfer: HP
Load Lock:
Narrow body with tilts in/out
No sliding sensor kit
Chamber A:
Type: pass through
Lid: metal
Cooling method: N/A
Chamber B:
Type: cool down
Lid: metal
Cooling method: by PCW / by gas
Chamber D:
Type: Preclean I
Process: oxide etch
RF Gen/DC power supply 1: CPS-1001
RF Gen/DC power supply 2: N/A
Leybold 361C: Turbo/Cryo pump Type
Chamber 1:
Type: standard body
Process: Al Cu, 0010-20225
RF Gen/DC power supply 1: AE MDX-L12M (Master)
RF Gen/DC power supply 2: AE MDX-L12 (Slave)
RF Gen/DC power supply 3: N/A
Turbo/Cryo pump Type: Cryo Pump, 3 phase
Gate valve type: 2-position
Pedestal type: Clamp (4F)
Process Gas:
Ar STEC 100 N2 100sccm
Ar-HTR STEC 100 N2 100sccm
Chamber 2:
Type: wide body
Process: TiN, 0010-20223 B+
RF Gen/DC power supply 1: AE MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2: N/A
RF Gen/DC power supply 3: N/A
Turbo/Cryo pump Type: Cryo Pump, 3 phase
Gate valve: 3-position
Pedestal type: 101
Process Gas:
N2 STEC 200 N2 200sccm
Ar STEC 100 N2 100sccm
Chamber 3:
Type: wide body
Process: Ti, 0010-20223 B+
RF Gen/DC power supply 1: AE MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2: N/A
RF Gen/DC power supply 3: N/A
Turbo/Cryo pump Type: Cryo Pump, 3 phase
Gate valve: 3-position
Pedestal type: 101
Process Gas:
N2 STEC 200 N2 200sccm
Ar STEC 100 N2 100sccm
Chamber 4:
Type: wide body
Process: Ti, 0010-20223 B+
RF Gen/DC power supply 1: AE MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2: N/A
RF Gen/DC power supply 3: N/A
Turbo/Cryo pump Type: Cryo Pump, 3 phase
Gate valve type: 3-position
Pedestal type: clamp (4F)
Process gas:
N2 STEC 200 N2 200sccm
Ar STEC 100 N2 100sccm
Ar-HTR STEC 100 N2 100sccm
Heat exchanger: Neslab Type II
Compressor type: CTI 8500, CTI 9600
SBC type in controller: V21
Ion gauge type: nude
Main AC box: 220VAC, 3 Phase, 60Hz
System Monitor:
1st Monitor: stand alone
2nd Monitor: through the wall
3rd Monitor: -
Installed
1995 vintage.
AKT AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reactorは、セラミックコンデンサの効率的な焼結のために設計された先進的な熱処理装置です。このシステムは、セラミック材料の均一で反復可能な加熱を保証し、幅広いプロセス範囲でより良い温度制御を提供する最適化された熱処理制御機能を備えています。AKT Endura 5500はまた、信頼性と再現性の高い焼結プロセスのための包括的な汚染防止機能を備えた高スループットレートを提供します。AMAT ENDURA 5500は、最適な焼結のための低圧および反応ガス環境を備えています。独立した変調制御により、個々のプロセスパラメータに対して最大限の柔軟性が得られます。複数の地帯、低圧によって熱されるプロセス部屋は熱的によく絶縁され、すぐに仕事の部分を熱し、冷却するのに使用することができます。応用材料ENDURA 5500はまた特定の条件を満たすために周期時間の変更を可能にします。このユニットには、機械のパフォーマンスを最適化するために使用できる高度なプロセス監視および制御機能が装備されています。これらの機能には、アクティブゾーン制御、温度均一性、障害回復、過熱保護、熱暴走保護、圧力監視、サイクル終了、プロファイル監視が含まれます。これにより、焼結サイクルの精度を最大化し、品質と再現性の高い結果を得ることができます。Endura 5500は、焼結プロセスに沿った完全なトレーサビリティのための自動ウェハマッピングと追跡機能も備えています。最高の信頼性の要件を満たすために、このツールは汚染防止のためのプロセスの清潔さをサポートするように設計されており、業界標準に準拠しています。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500は、セラミックコンデンサ焼結用に特別に設計された先進的で信頼性の高い原子炉です。このアセットは、アクティブゾーン制御、温度均一性、フォルト回収、過熱保護、および圧力監視により、プロセス制御を強化し、再現性の高い結果を提供します。また、トレーサビリティのための自動ウェハマッピングと追跡機能も備えています。このモデルは汚染を防ぐように設計されており、業界標準に準拠しているため、セラミックコンデンサ焼結に最適です。
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