中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #166249 を販売中
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販売された
ID: 166249
ヴィンテージ: 1993
Sputtering system, 8"
Wafer size: 8" flat (not notch)
Configuration:
Chamber 1: AlCu
Chamber 2: TiN
Chamber 3: Ti
Chamber 4: Ti
Preheat
Etch
Clean bench
Clamp (not electrostatic chuck)
Robot:
Buffer: AMAT HP, ceramic blade
Transfer: AMAT HP, metal blade
System monitor:
1: stand alone
2: through the wall
3: stand alone
(1) each monitor rack
Load lock:
Narrow body with tits in and out
No sliding sensor kit
Chamber A
- Chamber type: Pass through
- Chamber Lid: Metal Lid
- Cooling method: NA
Chamber B
- Chamber type: Cool down
- Chamber Lid: Metal lid
- Cooling method: By PCW
Chamber D
- Chamber type: Preclean I
- Chamber process:
- RF Gen/DC power supply1:
- RF Gen/DC power supply2:
- Turbo pump
Chamber F:
- Chamber type: Orient/Degas
Chamber 1
- Chamber type: Standard body
- Chamber process: AlCu, Preheat
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K SLAVE
- RF Gen/DC power supply2: A, MDX-20K MASTER
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: P/N 0010-70086
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 2
- Chamber type: Wide Body
- Chamber process: TiN
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: : CTI CRYO 8F 2phase
- Source(Lid) type : UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 3
- Chamber type: Wide Body
- Chamber process: Ti
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 4
- Chamber type: Wide body
- Chamber process: Ti, Preheat
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Includes:
- Heat exchanger type: Neslab III 1ea
- Compressor type: CTI 8500 2ea
- EMO on source cover : No
- Shutter : No
- SBC : V440
- KSI Shild Treatment DC Power Supply 1ea
- AE, MDX-052, SHILD TREATMENT CONTROLLER
- COMDEL, CPS-1001 RF POWER SOURCE 60.00Hz
- 15V P.S. ASSEMBLY / 24V P.S. ASSEMBLY
- 2Board MISC. on MASS STROAGE BOARD
Includes pumps
Installed
1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500は、微細なマイクロエレクトロニクス部品の高精度加工と製造を目的としたプラズマエッチング炉です。AKT Endura 5500は、プロセスチャンバー、外部真空ポンプ、その他の周辺部品からなる完全密閉型の装置です。このシステムは、信頼性と一貫したプロセス結果を提供するように設計されており、エッチング、パターニング、およびその他の精密マイクロエレクトロニクス処理のニーズに最適です。AMAT ENDURA 5500のプロセスチャンバーは、内部のプロセスコンポーネントを保護するためにセラミックウィンドウポートを備えたアルミニウムドーム型エンクロージャです。原子炉は、複雑なパターンを作成し、定義するために、様々なガスやエネルギー源を使用しています。アプリケーションに応じて、チャンバーにガスシリンダまたはマニホールドを取り付けることができ、プログラマブルコントローラによって指示されるように表面材料と相互作用する反応化学を提供します。また、プロセス制御に必要なイオンエネルギーを供給するために、電磁界発電機も設置されています。ENDURA 5500は、反応ガスバルブとチャンバー熱電対によって管理される調整可能な圧力、流量、温度制御設定を可能にします。圧力は2段階の外部真空ポンプによって維持され、起動時に自動的に排出されます。これにより、製造開始前にプロセスチャンバーに不純物がないことが保証されます。制御に加えて、AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500は、オペレータに高度な監視および診断ツールを提供し、最大の生産性を確保します。これらには、リアルタイムデータ表示、圧力モニタ、およびプロセス期間を管理するために設定できる精密タイマーが含まれます。さらに、ユニットには過圧保護や過熱保護などの安全機能が内蔵されています。これにより、最高品質の製品と効率的な生産率が保証されます。Endura 5500はその信頼性でよく知られており、一貫して高品質のエッチング結果を提供します。これにより、さまざまなマイクロエレクトロニクス処理ニーズに最適です。その調整可能な制御、診断ツール、組み込みの安全機能はまた、マシンが非常に効率的であることを確認し、優れた結果をレンダリングします。
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