中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #166248 を販売中

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ID: 166248
Sputtering system, 8" Process: AlCu / TiN / Ti Specifications: Robot: Buffer: AMAT HP, ceramic blade Transfer: AMAT HP, metal blade System monitor: 1: stand alone 2: through the wall 3: stand alone (1) each monitor rack Load lock: Narrow body with tits in and out No sliding sensor kit Chamber A - Chamber type: Pass through - Chamber Lid: Metal Lid - Cooling method: NA Chamber B - Chamber type: Cool down - Chamber Lid: Metal lid - Cooling method: By PCW Chamber C - Chamber type: N/A - Chamber process: - RF Gen/DC power supply - Turbo pump: - Process gas Chamber D - Chamber type: Preclean I - Chamber process: - RF Gen/DC power supply1: - RF Gen/DC power supply2: - Turbo pump Chamber F: - Chamber type: Orient/Degas Chamber 1 - Chamber type: Standard body - Chamber process: AlCu, Preheat - Process kit type/items/material: UNKNOWN - RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K SLAVE - RF Gen/DC power supply2: A, MDX-20K MASTER - Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase - Source (Lid) type: P/N 0010-20059 - Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300 - Process gas: Ar, N2 Chamber 2 - Chamber type: Wide Body - Chamber process: TiN - Process kit type/items/material: UNKNOWN - RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K MASTER - RF Gen/DC power supply2: N/A - Chamber pump: : CTI CRYO 8F 2phase - Source(Lid) type : P/N 0010-20059 - Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300 - Process gas: Ar, N2 Chamber 3 - Chamber type: Wide Body - Chamber process: Ti - Process kit type/items/material: UNKNOWN - RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K MASTER - RF Gen/DC power supply2: N/A - Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase - Source (Lid) type: P/N 0010-70059 - Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300 - Process gas: Ar, N2 Chamber 4 - Chamber type: Wide body - Chamber process: Ti, Preheat - Process kit type/items/material: UNKNOWN - RF Gen/DC power supply1: AE MDX-10K MASTER - RF Gen/DC power supply2: N/A - Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase - Source (Lid) type: P/N 0010-20059 - Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300 - Process gas: Ar, N2 Includes: - Heat exchanger type: Neslab III 1ea - Compressor type: CTI 8500 2ea - EMO on source cover : No - Shutter : No - SBC : V440 - KSI Shild Treatment DC Power Supply 1ea - AE, MDX-052, SHILD TREATMENT CONTROLLER - COMDEL, CPS-1001 RF POWER SOURCE 60.00Hz - 15V P.S. ASSEMBLY / 24V P.S. ASSEMBLY Installed 1994 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reactorは、現代の半導体デバイスメーカーのニーズに応えるために設計された、次世代のプラズマエッチング装置です。この原子炉システムは、高度なCMOS、 3D NAND、 DRAMメモリ、ロジックデバイスの幅広いエッチングプロセスを提供することができます。AKT Endura 5500は、高密度プラズマ源と組み合わされた独自の集積ノズルを使用して、優れたエッチング速度、大きなウエハエリア全体での高い均一性、スループット向上のための迅速なチャンバーサイクルを実現します。AMAT ENDURA 5500には、強力な真空ポンプユニットと高い動力圧力が付属しており、プロセスチャンバーからのアウトガス材料の迅速な除去を容易にします。最新のプラズマ源と流通技術を搭載し、リアルタイムでエッチングパラメータを調整し、エッチング結果を微調整することで、加工中の微細な表面へのダメージを最小限に抑えることができます。このツールのプラスチックエンクロージャは、音響ノイズを減衰させ、アセットの精密部品を振動や電磁干渉から保護するように設計されています。また、統合されたガス配送モデルとバルクガス供給が含まれており、複数のエチャントガスの正確な配送と制御を可能にします。APPLIED MATERIALIES ENDURA 5500には設定可能なワークステーションとコントローラが装備されており、ユーザーは材料または製品の要件に基づいてエッチングレシピを保存、リコール、調整できます。その他の機能として、マルチプロセス機能、手動/自動化されたフロー制御、構成可能なバッチパラメータ、診断およびレポート機能があります。AMAT Endura 5500はClass 1 Clean Room環境でのクリーンな操作を目的として設計されており、手動/リモート/コンソール操作を含む柔軟な操作のために複数の構成で利用できます。この原子炉装置は、高い品質基準で製造されており、信頼性と再現性の高い結果を提供します。単一の柔軟なプラットフォームで、歩留まり、スループット、運用経済学を向上させます。
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