中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 #293827409 を販売中
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ID: 293827409
ヴィンテージ: 2016
Physical Vapor Deposition (PVD) system
Part number / Description
0410-10000 / System, 12"
FAM300E2 / MDP E2 Endura, 12"
0415-10014 / -
0415-10346 / Impulse AIN
0415-10046 / Dual mode degas
0415-10054 / RGA Manual valve
0395-09095 / Infopad pos A or B
0395-09026 / E78 Ionizer
0395-09073 / Upper E84 Data logging sensors and cables
0395-09071 / TIRIS with RF E99 Carrier ID
0395-00114 / Operator access switch
0395-09056 / Remote flat panel monitor on stand
0395-09007 / Effective 75 Feet with 66 Feet
0415-10080 / Umbilical’s 75 Feet Mainframe to equipment rack
TR-STND-22 / Standard training package
WT-12MO / Standard 12-month warranty
0415-10082 / FIF Generic kit
0415-10089 / Lifting aids
0415-10090 / Maintenance lift
0395-09029 / FI Align and levelling tool kit
0395-09039 / Ionizer calibration tools
0395-09055 / Outrigger levelling tools
0395-09031 / FI Service lift
0395-09123 / Load Port Service Tool (7) Salop
0395-09013 / Controller recovery tools
0395-09066 / YAT Teach tools, 12”
0415-10288 / Cons kit - Impulse
0415-10313 / Shutter disk, ESC, Ti, AL Arc spray
2016 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2リアクターは、半導体加工のために設計された画期的なエッチングおよび成膜チャンバーです。これは、高度な化学製品のAMAT SPECTORシリーズの最新のブレークスルーの一つです。AMAT Endura 2は、第2世代のエッチングと蒸着プラットフォームであり、競争とは別にそれを設定するいくつかの革新を備えています。アプライドマテリアルズEndura 2は、チャンバが前例のないチャンバー圧力とプロセスパラメータを達成することを可能にするユニークなデュアルポンプ構成を備えています。また、チャンバーボリュームの削減とチャンバープロファイルの低減により、ウェーハサイズの蒸着が可能な総表面積が大幅に削減され、使用率が向上し、ウェーハあたりのコストが削減されます。原子炉にはエッチングチャンバーと蒸着チャンバーの2つのチャンバーが装備されています。このエッチングチャンバーは、バランスのとれたリアルタイム反応イオンエッチング技術を使用して、アスペクト比と地形を正確に制御してフィーチャープロファイルを形成します。この蒸着チャンバは、誘導結合プラズマ(ICP)源を使用して、厚さの均一性と正確な組成制御を備えた薄膜を堆積させます。また、チャンバー間でウェーハを正確かつ効率的に転送できるロボットアームや、個々のウェーハを識別して位置を追跡するウェーハマッピング装置など、ウェーハハンドリングメカニズムを自動化しています。また、エッチングおよび蒸着プロセスのパラメータを監視および最適化するための高度なソフトウェアも備えています。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2には、データ収集と分析のための高度なシステムが付属しています。この高度なユニットは、リアルタイム監視だけでなく、後処理分析、エッチングと沈着パラメータの提供します。AMAT Endura 2マシンは、高い安全基準で設計されています。緊急停止システム、緊急通気システム、高度な監視システムなど、いくつかの冗長な安全機能を備えています。これらの特徴は人員および装置の安全を保障します。APPLIED MATERIALTS Endura 2は、半導体加工業界の新しい基準を設定する画期的なエッチングおよび成膜チャンバーです。独自のデュアルポンプ構成、低チャンバプロファイル、自動化されたウェーハハンドリングメカニズムを備えているため、これまでにないレベルのプロセス制御と精度を実現できます。さらに、高度なデータ収集および分析ツールは、プロセスパラメータに関する実用的な洞察を提供します。高度な安全機能により、安全性と信頼性がさらに確保されます。その結果、Endura 2は低コスト、高性能、効率的な半導体加工に最適です。
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