中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 DSTTN #9364585 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 DSTTNは、半導体、MEMSなどの材料加工に使用される先端技術の大気化学蒸着（APCVD）炉です。独自のガス流動力学により、より高い蒸着速度と究極の品質での蒸着の均一性を可能にします。単一のウェーハチャンバー設計により、さまざまなプロセスで使用されるサイクルタイムと費用対効果の高いソリューションが作成されます。AMAT Endura 2 DSTTNは、高度なレシピ制御、正確なガスの流れ、複数のソースのガス出口、および負荷/アンロードシステムなどの高度なプロセス機能を備えています。完全に統合されたロックダウン成膜チャンバを備えており、高度な半導体デバイスのプロセスに敏感で高収率を実現します。さらに、独自のDewar設計により、高ガス圧力動作と高受容率の基板が可能になります。原子炉は4つの異なるガス供給装置を導入し、それぞれ異なる化学および反応剤を使用して動作します。その後、これらのガスは加熱され、その組成はテール散逸プレートによって変化します。温度、流量、組成を正確に制御することにより、基板本体上にデバイス下構造に必要な正確な材料を形成することができます。APPLIED MATERIALS Endura 2 DSTTNは、蒸着プロセスにおける不要な反応副産物を減らすために独自に設計されています。内蔵のガスフロー上昇機構を利用することで、高速変換速度と選択領域の蒸着を実現し、従来のシステムよりも高い収率を実現します。さらに、この原子炉には動的なソース制御技術が組み込まれており、最大1000°Cのプロセス温度で精密なフィルムコーティングが可能です。Endura 2 DSTTNは、高度な半導体デバイスを迅速に開発するための理想的なツールです。精密なCVDチャンバーにより、複雑で非常に小さなデバイス用の超薄膜を製造することができます。さらに、Dewarの設計により、最大1000°Cの温度での柔軟性と信頼性の高い再現性が可能になり、最適なプロセス結果が保証されます。