中古 AMAT / APPLIED MATERIALS ECP SlimCell #9031142 を販売中

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ID: 9031142
System, 12" Factory interface: 3 FOUP stage Anneal module: Anneal – A SRD module: SRD – B SLIM CELL module: CELL – B, CELL – D IBC module: IBC – B (16) Units: 1. EFEM 2. Buffer Unit 3. Annel Unit 4. Main System 5. Chemical Supplier #1 6. Chemical Supplier #2 7. Chemical Drain Unit 8. Chiller 9. Monitor Stand #1 10. Monitor Stand #2 11. Parts Box #1 12. Parts Box #2 13. Parts Box #3, 14. Parts Box #4 15. Lifter #1 16. Lifter #2 System Configuration: Mainframe: - Wafer Transfer Robot with two Blades x 1 - SLIM CELL TM Module x 2 (Cell - B, Cell - D) - SRD (Spin Rinse Dry) x 1 (SRD - B), - IBC (Integrated Bevel Cleaner) x 1 (IBC - B) - In-Station (Pass Stage) under SRD x 4 - Independent Plating-solution Circulation System x 4 (for Anode and Cathode in each SLIM CELL TM Module) - Mixing Unit for Plating-solution and Cleaning Fluid - Fan Filter Unit (FFU) Factory Interface (FI): - Two Blade Robot - FOUP Stage (ADO) x 3 - Aligner - Fan Filter Unit - GUI Computer controlling FI and Mainframe control systems Heater / Chiller Operator Interface x 2 (Main & Sub) Anneal Chamber Module: - Anneal Chamber x 1 (Anneal - A) - Movement and Temperature Control, Gas Box * Mainframes consist of 1) Mainframe, 2) FI and 5) Anneal Chamber Module * Anneal Chamber is middle of Anneal Chamber Module and Anneal - A is above the Anneal Chamber Mainframe Details: Frame Fan Filter Unit: ULPA Filter (>0.12 μm, >99.999%) Plating-solution Supply Unit SLIM CELLTM Module - Plating Head: 5 RPM to 400 RPM - Plating Cell - Plating-solution circulation system Filter (Millipore, 0.05 μ, 20") Temperature Control ± 1.5 deg C SRD (Spin Rinse Dry): 50 ~ 2500 RPM - Lower Cleaning Nozzle (one for DI and Chemical) - Upper Cleaning Nozzle (one for DI) IBC (Integrated Bevel Cleaner): 50 ~ 2500 RPM ± 20% - Lower Cleaning Nozzle (three for each DI and Chemical) - Upper Cleaning Nozzle (one for each DI and Chemical)I) LBDU (Liquid Blend Dose Unit): ± 5 % AC Box - 208 VAC, 3 Phase, 175 A Mainframe ROBOT - Dual Arm Robot made by Roze, RS-485 (Ethernet) serial interface Factory Interface (FI) Details: FOUP Stage (ADO: Auto Door Opener) - TDK for AMAT Specification Link Tunnel - Dual Blade Robot made by Yaskawa Align Stage detecting Wafer Notch Fan Filter unit: (>0.12 μm, >99.999%) FI / Mainframe Control Unit with UPS (Window NT 4.0) GUI (Graphic-User-Interface) Computer with UPS (Window NT 4.0) Chiller Details - Daiken for AMAT Specification - Temperature Control Range: 5 ~ 22 deg C Operator Interface Details - LCD Touch Panel, Keyboard with Track Ball - Desk Type or Roll-Around or Wall Mount Type Anneal Chamber Module Details: Anneal Chamber - Gas Box: Mixing and Control of N2 96 %, H2 4% Process Gases MFC, Flow Switch - Heater (150 ~ 300 deg C), Cooler Plate, Arm MTBF 1) MTBF Target : 250 hr 2) MTBF Target for each Unit - Slim Cell 3400 hr - IBC 3400 hr - SRD 4000 hr - Anneal 4500 hr - MF Robot 6800 hr - FI 5000 hr.
AMAT/APPLIED MATERIALS ECP SlimCellは、電子サイクロトロン共鳴(ECR)を利用して誘電膜と導電膜を堆積させる原子炉です。この原子炉には、ECRマイクロ波源、ガスバイアスデリバリーフレーム、追加のガス入力、燃焼補助洗浄、プロセスコントローラ、水循環および冷却システム、および十分に設計された安全装置を備えたフル機能のプロセスチャンバーが含まれています。原子炉室は単殻透明な石英とステンレス鋼構造である。これは、高性能の再活性化イオンエッチング、プラズマアブレーションおよび沈着動作用に設計されています。ECRマイクロ波源は、チャンバー内のガス混合物をイオン化するためのマイクロ波を生成する高周波発生器です。ガスバイアス搬送フレームはチャンバーの下部に配置されており、イオンの強度を正確に制御できます。追加のガス入力はチャンバの上部に接続され、プロセスチャンバに不活性ガスまたは腐食性ガスを供給します。燃焼補助洗浄システムは、制御された化学反応がクリーンチャンバーを維持するのに役立つ新しい機能です。複雑な掃除の必要性を一気に排除します。また、ポストプロセスのメンテナンス時間も短縮します。プロセス制御ユニットは、Windowsトランスポートアーキテクチャとインタフェースされている分散機器マシンに基づいています。複数のアプリケーションとレシピを同時に処理し、すべての周辺処理コンポーネントで動作するように設計されています。このツールは、すべてのプロセスパラメータをリアルタイムでフィードバック制御することもできます。水循環および冷却システムは、反応チャンバーのすべての重要なコンポーネントの均一で温度制御された冷却を提供するように設計されています。不動態化された版の設計は水速および熱放散を最大にするために原子炉で利用されます。AMAT ECP SlimCell原子炉の安全資産には、事故を防止し、過剰な放射線や過熱から人員を保護するためのさまざまな安全機能が含まれています。APPLIED MATERIALTS ECP SlimCellは、蒸着プロセスに優れた均一性とスケーラビリティを提供します。包括的なメンテナンスプロセスは、デバイスを優れた作動状態に保ち、一貫したパフォーマンスを保証するのに役立ちます。最新の統合制御モデルを使用することで、プロセス制御を簡単かつ正確に行うことができ、研究および生産に最適な選択肢となります。
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