中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 #293621288 を販売中

ID: 293621288
ウェーハサイズ: 8"
8" Process: Nitride.
AMAT/APPLIED MATERIALS Chamber for P5000は、幅広い材料成膜およびエッチング用途向けに設計された汎用性の高い原子炉です。直径18インチ、長さ24インチの大型真空チャンバーを備えています。チャンバーは、適切なポンピングシステムとペアリングすると、5。0 x 10-9 Torr未満の基圧を達成することができます。また、排ガスを最小限に抑え、処理結果を改善するために、自動化されたリフトオフキャップパージングシステムを備えています。AMAT P5000チャンバーにはプロセスガス導入システム(PGIS)が装備されており、独立したフロー制御と混合バルブを備えた最大3つの完全制御可能なバルブを提供します。これにより、蒸着プロセスとエッチングプロセスを正確に制御することができ、異なる材料や用途の複数のプロセスレシピを可能にします。また、電磁(パルス)プラズマ源と高速コンピュータ制御プラズマ(RPC)システムを備えており、高度なプラズマプロセスを作成するために使用することができ、優れた均一性とプロセス制御を提供します。AMAT Chamber for P5000には、マルチゾーンの加熱および冷却機能も搭載されており、厳格なプロセス制御が可能です。それは熱安定性のための多数の二重モリブデンヒーターそして水晶部屋の壁、また高性能プロセスの間に部屋の温度を維持する冷却水の港を含んでいます。P5000チャンバーは、メンテナンスの容易さと、ダウンタイムを最小限に抑えて寿命を延ばすように設計されています。これには、堆積均一性とプロセスチャンバー機能を監視するための自己完結型チャンバーモニターが含まれています。また、大型外付けCCDビューポート、イオンゲージ、多数の安全インターロックなど、さまざまな安全機能を備えています。APPLIED MATERIALS Chamber for P5000の先端技術と幅広いプロセスレシピと精密加工機能を組み合わせることで、材料の成膜やエッチング用途に最適です。よく設計された構造によって、それは効率的で、信頼できる方法で優秀な材料の処理を保障します。
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