中古 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9390594 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enablerは、大面積の薄膜蒸着プロセスを作成するために設計された原子炉です。成膜プロセスにウェハを準備する工業用グレードの成膜装置です。AMAT Centura Enablerは、高い均一性と均質性を備えた薄膜の成長、修正、修復を容易にするように設計されています。このシステムは、蒸着中のウェーハ温度を正確に制御できる、コンピューター制御の温度管理チャンバーを備えています。このユニットは、特許取得済みの高度な低圧蒸着プロセスを利用して、超薄膜を広範囲にわたって均一な性質に堆積させることができます。この低圧プロセスにより、ボトムシールドとサイドシールドが不要になり、スループットと生産性が向上します。このチャンバーは低速窒素環境を備えており、材料を基板に素早く転送することができます。窒素環境はまた、蒸着速度の変化を防止することにより、プロセスの均一性とコヒーレンスを改善します。これにより、基板上に堆積した材料のより均一な分布が可能になります。APPLIED MATERIALTS Centura Enablerは、さまざまな材料蒸着プロセスに使用できますが、特に揮発性の高い酸化膜に適しています。Centura Enablerは先進的なイメージング機能も備えており、25ナノメートルまでの機能を検出して測定することができます。また、高速オートフォーカス機能により、高品質の画像データを最短時間で取得することができます。また、ダイナミックなオートフォーカスにより、サンプル表面のわずかな地形変化でも、イメージングターゲットが基板に正確に登録されます。このツールはまた、ユーザーがサンプルの位置を正確に調整して設定できる数値表示を備えています。この精密位置決めにより、プロセスと歩留まりの完全性を正確かつ再現可能にします。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enablerは、材料の種類に関係なく、基板ウェーハに高品質、均一、均一な薄膜を堆積することを可能にする先進的な産業グレードの資産です。また、先進的なイメージング機能と、一貫した再現性のある測定のための基板の正確な位置決めを備えています。これにより、高い歩留まりの整合性と品質で高スループットのプロセス結果が得られます。