中古 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9288113 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURAは、半導体製造に特化したマルチチャンバーリアクターです。プラズマエッチングと堆積プロセスの両方を1台のマシンで提供する2階建てのクラスタツールです。プロセスチャンバーは、異なるプロセスを同時に実行できる「クラスタ」構成に配置されており、より小さな機能、より大きなスループット、および改善された歩留まりでの生産を可能にします。AMAT CENTURAには、特定の顧客の要求に合わせてカスタマイズされた高度なプラズマエッチングおよび成膜技術が搭載されています。プラズマエッチングチャンバーには、PlasmaCoreまたはPECVD （Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）プロセスが装備されており、層の均一性、スループット、および幾何学的精度を最大限に高めるために最適化することができます。さらに、APPLIED MATERIALS CENTURAは、エッチング工程におけるオンザフライキャリア制御の追加機能も提供します。蒸着チャンバーは、主にシリコン酸化物やドープ酸化物の厚い層の蒸着に使用されますが、他の蒸着プロセスもCENTURAで管理することができます。堆積は、TEOS （Tetraethylorthosilicate）またはALD （Atomic Layer Deposition）プロセスを使用して行われ、特定の顧客の要件に合わせて調整することもできます。堆積層は100から1000アングストロームまでの範囲で、より高いプロセスの均一性と収率を達成するために調整することができます。成膜・エッチング炉としての機能に加えて、AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURAでは、エッチング残留物を除去するためのAdvanced Photoresist Remover （APR）、チャンバー内の環境を制御するための汚染制御システム（CCS）、プロセスを監視するためのAPC。AMAT CENTURAは非常に汎用性が高く効率的なツールで、従来のツールよりも大幅に改善されたプロセス歩留まりで非常に高品質のデバイス層を生成することができます。高度なコンタミネーション制御システムと自動化されたプロセス制御により、高精度の蒸着およびエッチング機能により、さまざまなアプリケーション分野で信頼性と一貫した結果が得られます。その結果、APPLIED MATERIALS CENTURAは、最先端のデバイスアーキテクチャを備えた高周波デバイスの製造に適しています。