中古 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9251311 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURAは、多くの半導体製造施設で主力となっている高水準の化学および物理蒸着（CVD/PVD）原子炉です。AMAT CENTURAは、さまざまな基板サイズの高速かつ高精度の薄膜蒸着プロセスを実行することができます。この装置には、精密なエッチングおよび成膜制御が可能な高度な自動制御技術、および低温、高均一薄膜成膜が装備されています。原子炉設計には、統合された直接結合ポンプと、最適な性能を得るための堅牢な熱制御技術も備えています。アプライドマテリアルズCENTURAは、シリコンベースの半導体製造プロセスで使用するために設計されています。主に薄膜トランジスタ（TFT）や集積回路（IC）の製造に使用され、コンピュータや携帯電話など様々な電子製品に使用されています。CENTURAは、OLED、 AMOLEDなどの半導体光検出器やディスプレイ技術の製造にも使用されています。この原子炉は、0。5〜12インチの範囲で基板を正確に自動処理できるロボットとインデクサーシステムからなる精密な基板処理技術を利用しています。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURAが提供する精密な処理により、基板に損傷を与えることなく、精密なエッチングおよび薄膜蒸着が可能です。また、高度な診断パッケージを使用して、プロセスをリアルタイムで監視し、必要に応じてプロセスを自動的に調整できます。このマシンには、さまざまなアプリケーションの精密成膜とエッチング制御を可能にする高度な制御ソフトウェアの配列も装備されています。これにより、蒸着プロセスの正確な制御と、プロセスの安定性を確保するための正確なエッチングと蒸着速度を可能にします。また、精密な薄膜成膜とエッチング結果を保証する正確で再現性のあるレイヤープロファイルも可能です。AMAT CENTURAは、最も先進的で信頼性の高い化学および物理蒸着（CVD/PVD）ツールです。様々な基板サイズに対応した高速・高精度の薄膜蒸着プロセスが可能で、世界中の多くの半導体製造施設で好ましい資産となっています。モデルの正確な処理と高度な制御技術により、市場で最も信頼性が高く正確なシステムの1つです。