中古 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9231993 を販売中

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ID: 9231993
ウェーハサイズ: 8"
PVD System, 8" (3) Chambers Load lock: Narrow body HP Robot Position A: STD AL Position B: G12 Position C: PC II Position F: Orienter degass Chamber A: Options: Application: AL Chamber body: Standard Wafer heater: Standard Cryo gate valve: 2PGV Source assembly: 12.9" Source adapter: 12.9" Magnet type: Dura source Magnet part number: 0010-20328 Chamber B: Options: Application Chamber body: Wide Wafer heater: A101 Cryo gate valve: 2PGV Source assembly: G12 Source adapter: G12 Magnet type: G12 Magnet part number: 0010-20768 Shutter assy included Chamber C: Options: Application: PC II Chamber body: PC II LEYBOLD 361c Turbo pump LEYBOLD 360 Pump controller RF Match: 0010-20524 Generator rack options: Selected option Position A RF generator: AE MDX-20K Position B RF generator: AE MDX-L6K Position C RF generator: RF Generators (CPS1001, LF-10).
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURAは、高度な半導体ウェーハを処理できる高度で洗練された自動化された装置です。直径300mmのウエハを処理するために特別に製造された生産レベルの原子炉です。このシステムには、効率的で経済的な完全自動輸送、チャンバー、およびロードポートが装備されています。AMAT CENTURAユニットには、3つの主要なチャンバー部品があります。フロントチャンバーにはロードポートがあり、リアチャンバーには高エネルギーのプラズマ源とチャンバーにウェーハを配置して収集するためのロボットアームが装備されています。3番目のチャンバーであるプロセスチャンバーは、各ウェーハを迅速かつ正確に処理するように設計されています。このチャンバーは、高エネルギー電子とガス源の組み合わせを持っています。完全なチャンバーレベルの処置周期はプロセス部屋で起こります。機械にまた大きく、構成可能な粒状のガス配達用具があります。このアセットは反応性ガス種をプロセスチャンバーに供給し、副生成物や不純物の生成と制御を行います。コンフィギュレーション性により、ユーザーは複数のセットポイントから選択して目的のウェーハ結果を達成できます。モデルは自己診断および光学品質管理(QC)モジュールが質の生産を保障するために装備されています。また、TEM(<100nm)イメージングシステムと最大3000倍のズームを備えたリアルタイム電子顕微鏡ユニットを備えています。メインチャンバーに加えて、マシンにはいくつかの補助システムも含まれています。これらのシステムは、反応性ガスの流れを管理し、圧力、温度、湿度などのツールパラメータを制御するために使用されます。この資産には、2つの独立したチラー、RFジェネレーター、および真空ポンプが装備されています。このモデルには、自動データ収集および分析のための高速データ収集装置が装備されています。APPLIED MATERIALTS CENTURAシステムには、バックエンド・オブ・ライン処理やスペーサ欠陥検出など、幅広いアプリケーションがあります。また、in-situ、急速熱処理、自己境界エッチングなどの高度なプロセス制御オプションも提供しています。機械の柔軟性により、ユーザーは最適な性能と品質のために生産プロセスと設定を設計および調整することができます。セットポイントとパラメータを最適化することで、低生産から大量生産まで、さまざまな生産ニーズや用途に対応できます。
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