中古 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9101726 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Programmable Reactorは、超クリーンな環境でエッチング、蒸着、分析層に使用される半導体製造ツールです。高速・高精度・低メンテナンスを特長とし、様々な半導体製造プロセスでの使用に最適です。AMAT CENTURA Programmable Reactorは、基板表面への層のエッチングと堆積のための精密基板温度制御を提供するように設計されています。この原子炉は、エッチング工程でも正確な温度調節を可能にするクローズドループ「ループ」制御技術を利用しています。この技術は、堅牢なクローズドループ・フィードバック・システムと組み合わせることで、非常に複雑な基板上でも1ミクロンほど浅い深さまで正確にエッチングすることができます。APPLIED MATERIALTS CENTURA Programmable Reactorは、エッチングと蒸着の効果を一貫してモニタリングすることで、結果として生じる材料が堆積した厚さを完全に制御します。CENTURA Programmable Reactorはメンテナンス性が低く、高周波で効率的に機器を操作することができます。低保守設計を採用し、汚染源を最小限に抑え、高速運転によりプロセスのスループットを最適化します。一方、その低いメンテナンス設計は、ユーザーに最小限のダウンタイム、予防的なメンテナンスコスト、およびより長い機器の寿命を提供します。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURAプログラマブルリアクターは、補完金属酸化物半導体から有機発光ダイオード技術まで、さまざまな半導体製造システムに使用できます。システムは、特定のアプリケーションに対してプロセス制御機能を提供するように構成されています。プログラマブルリアクターは、さまざまな真空環境での使用に適しており、湿式および乾式の両方の蒸着プロセスに対応できます。AMAT CENTURA Programmable Reactorは、正確で一貫したエッチングを提供するだけでなく、分析機能も提供します。このシステムは、最適な半導体層解析機能を備えており、ユーザーはプロセスの結果を実行する際に洞察を得ることができます。この分析は、材料の性能特性、材料分布、および一貫性に関するデータを提供することができます。APPLIED MATERIALTS CENTURA Programmable Reactorは、エッチング、蒸着、分析レイヤーに最適な高度で高性能な製品です。その正確な温度制御、低メンテナンス設計、分析機能により、Programmable Reactorは多くの半導体製造プロセスに最適です。