中古 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9052291 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURAリアクターは、シリコンベースの半導体部品の製造に使用される化学蒸着（CVD）装置です。シリコンウェーハ、金属、有機材料など様々な基板に薄膜層を堆積させることができます。CVDは基板を高温に加熱し、前駆体を互いに反応させることで薄膜の成長を促進します。このプロセスはまた、ウェーハ表面全体にわたって均一なフィルム成長を保証します。AMAT CENTURA Reactorは、同社の半導体業界での数十年の経験の製品です。それは他のCVDシステムの中で比類のないプロセス再現性で、優れた性能を提供します。このユニットは、誘電体や金属から酸化物、窒化物、ポリシリコンまで、幅広い材料を堆積させることができます。また、高度なプロセス制御機能を備えているため、エンジニアはプロセスを微調整して効率とパフォーマンスを向上させることができます。APPLIED MATERIALTS CENTURAリアクターには、多くの安全性と環境保護機能もあります。その部屋は耐食性のステンレス鋼から成り、汚染から敏感な部品および基質を保護するように設計されています。また、低温・低圧条件にも対応しており、敏感な用途に最適です。封じられた基質のテーブルおよび源の材料部屋はまた危険なガスおよび発煙への露出を最小にします。CENTURA Reactorは、高度な監視および制御機能も提供します。必要に応じて、反応プロセスパラメータを簡単に設定および自動調整できます。これにより、一貫したフィルムの成長と信頼性の高いパフォーマンスを保証します。さらに、洗練されたモニタリングマシンはプロセスに関する詳細な洞察を提供し、エンジニアはプロセスを微調整して最適化して望ましい結果を得ることができます。要約すると、AMAT/APPLIED MATERIALTS CENTURA Reactorは、半導体部品の製造に使用される強力なCVDツールです。優れた性能、高度なプロセス制御機能、最適化された安全性と環境保護、包括的な監視と制御機能を備えています。これにより、AMAT CENTURA Reactorは、有能で信頼性の高いCVD資産を探しているあらゆる製造ラボに最適な選択肢となります。