中古 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293622689 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enablerは、半導体デバイスの製造および製造におけるファインライン機能の堆積を可能にするように設計された高性能エッチング炉です。AMAT Centura Enablerは、高度なエネルギー制御技術とEビーム技術を使用して、基板上の層の堆積を高速かつ高度に制御することができます。APPLIED MATERIALTS Centura EnablerのAdvanced Energy-Control技術は、反応部位を活性化し、基板に送られるエネルギーを制御するために使用される集中電子ビームに基づいており、蒸着パラメータを正確かつ正確に制御します。この技術はまた、優れたトータルツールスループットを提供し、プロセスの稼働時間を最大化するための低コストのバッチ処理を可能にし、低コストから超微細ライン生産まで、さまざまなアプリケーションをサポートすることができます。Centura Enablerで使用されるEビーム技術は、基板表面に大きな均一で均質なプラズマゾーンを作成する電子ビーム蒸発の形態です。Eビームによって生成されるプラズマゾーンの均一性と均質性は、基板上の層材料の均一な堆積を保証し、微小欠陥、許容できない化学反応、および不均一な膜厚などの一般的な処理問題を排除します。AMAT/APPLIED MATERIALTS Centura Enablerは、エッチングプロセスの高精度制御も提供します。その高度なガス流量制御システムは、プラズマパラメータの微調整を可能にし、エッチングの所望の量を最小限の残留物で達成することができます。AMAT Centura Enablerのエッチング処理によって生成されるイオン化された粒子は、精密で均一なエッチングのために数ナノメートル以内に微調整することができます。APPLIED MATERIALTS Centura Enablerの機能と優れたプロセス制御により、半導体デバイスの製造および製造における幅広い用途に最適です。その高度なエネルギー制御およびEビーム技術は、基板の整合性やプロセスの歩留まりを損なうことなく、優れた歩留まりで高スループット生産を可能にします。より高速で均一で正確な層の堆積を可能にするCentura Enablerは、高品質で高性能なデバイスの製造と製造に最適です。