中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WxZ #9203350 を販売中
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WxZは、半導体製造における成膜用に設計されたプロセス炉です。原子炉は物理蒸着（PVD）と化学蒸着（CVD）の両方のプロセスを実行することができます。デュアル大容量反応容量を備え、処理スループットと柔軟性を向上させます。このシステムには、RFジェネレータとRFプラズマ源が搭載されており、粒子レベルの低い均一で高品質なフィルムを実現しています。WxZリアクターには、基板回転用の真空チャックと、ハイエンドのマスフローコントローラを備えた自動ガスフィードシステム、およびプロセスパラメータの自動in-situ監視も備えています。高精度の温度および圧力制御システムは一貫した、反復可能な結果を保障します。さらに、WxZリアクタは優れた温度均一性を提供するように設計されており、基板表面全体の変動を最小限に抑えます。これにより、大型基板に比べて高品質のフィルム成長が保証されます。WxZリアクターは、最高のプロセス制御と精度を提供するように設計されています。高度なプロセスモニタリング機能により、膜厚やその他の重要なプロセスパラメータをリアルタイムで検出できます。スループットを最大化し、消費電力を最小限に抑えるように設計されています。また、ツールアクセスモニタリングと紫外線（UV）光の安全キー印刷を提供し、安全性を高めています。WxZリアクターは様々なプロセス化学に対応しており、半導体製造の柔軟性を最大限に高めています。これには、イオンビームエッチング（IBE）、リアクティブイオンエッチング（RIE）、原子層成膜（ALD）、電気化学アプリケーションなどのプロセスが含まれます。この原子炉は、堅牢で高品質な材料から構成されており、信頼性の高い動作と製品寿命の延長を保証します。さらに、密閉チャンバーの設計により、メンテナンスが容易になり、汚染を防ぎ、プロセスの再現性を確保することができます。AMAT Centura WxZは、高品質のフィルムを実現するための信頼性の高いツールであり、優れたプロセス制御と効率性を備えています。
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