中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WxP #9236597 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WxPは、シリコーン、ガラス、金属などの基板の高温アニール、金属化、エッチングに使用される先進的な半導体炉装置です。中規模から大規模生産に最適で、幅広い高性能アプリケーションに適した構成が可能です。AMAT Centura WxPは、強力なウェーハプローバーシステムにより、最高レベルの精度と精度を実現します。レスポンシブガス搬送機を内蔵しており、ダイナミックプロセスパラメータに対する正確かつ迅速な応答を可能にし、最高レベルの柔軟性と加工精度を実現します。ガスデリバリーツールは、アルシン、リン、フッ素、塩素ベースのガスなど、幅広いプロセスガスに対応できます。このアセットは、効率的かつ直感的な操作のための洗練された制御インターフェイスを提供し、エンジニアは使用されている正確な基板とプロセスのための一般的なプロセスパラメータと特定のパラメータの両方を設定することができます。ウェーハリフトを内蔵しているため、ウェーハシートをチャンバー内に簡単に移動でき、ウェーハマッピング機能により、必要に応じてウェーハを補充することが容易になります。応用材料Centura WxPには2つの独立した温度ゾーンがあり、温度勾配を使用して基板内の温度変化を制御できます。これにより、最終結果の均一性を確保するために基板全体で均一な温度を達成することが迅速かつ容易になります。このモデルには、ラジアル温度モニタリング装置も含まれており、アニールまたはエッチングプロセスを正確に制御するために基板内のさまざまなポイントで温度測定を提供します。これは、正確で正確なガス供給と、異なるプロセスや基板に正確なパラメータを設定する能力と併せて、市場で入手可能な最も強力な半導体原子炉の1つになります。要するに、Centura WxPは、シリコーン、ガラス、および金属基板の高性能処理のための精度と柔軟性の完璧なバランスを提供します。パワフルなウェハマッピング機能、洗練されたガス供給システム、内蔵のラジアル温度監視ユニットにより、半導体生産の均一な結果を実現するための信頼性と使いやすいツールとなっています。