中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X #9107256 を販売中
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販売された
ID: 9107256
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2003
CVD System, 12"
Wafer Shape JMF
Position A ULTIMA X HDP-CVD
Position B ULTIMA X HDP-CVD
Position C ULTIMA X HDP-CVD
Position D NA
Position A Process OXIDE - USG / STI
Position B Process OXIDE - USG / STI
Position C Process OXIDE - USG / STI
Position D Process NA
Line Voltage 208 VAC
Line Amperage PRIMARY 320A, SECONDARY 240A
(A) ULTIMA X HDP-CVD
Ultima X Chamber Options Selected Option
Integrated Process Module IPM : YES
Turbo Pump TMP-3203LMC-A1
Nozzle Type
Gas Ring 36 PORT
Top Baffle
Upper Chamber ENHANCED
Process Application USG / STI
Process Kit STANDARD
Clean Method NPP RPS (NEW POWER PLASMA)
Independent Helium Cooling ENABLED
(B) - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD
Ultima X Chamber Options Selected Option
Integrated Process Module IPM : YES
Turbo Pump TMP-3203LMC-A1
Nozzle Type
Gas Ring 36 PORT
Top Baffle
Upper Chamber ENHANCED
Process Application USG / STI
Process Kit STANDARD
Clean Method NPP RPS (NEW POWER PLASMA)
Independent Helium Cooling ENABLED
(C) - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD
Ultima X Chamber Options Selected Option
Integrated Process Module IPM : YES
Turbo Pump TMP-H3603LMC-A1
Nozzle Type
Gas Ring 36 PORT
Top Baffle
Upper Chamber ENHANCED
Process Application USG / STI
Process Kit STANDARD
Clean Method NPP RPS (NEW POWER PLASMA)
Independent Helium Cooling ENABLED
Gas Delivery Options
Gas Panel Selected Option
Gas Feed BOTTOM
Gas Panel Exhaust BOTTOM
MFC Type UNIT 8565 & 8565C
Gas Panel Door STANDARD
Valves VERIFLO
Display Gas Pallets
Gas Lines
Transducers NONE
Regulators NONE
Filters Millipore/Mykrolis/NAS Clean
A - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD PALLET Selected Option
Gas Pallet
Line 1 Upper N2 PURGE
Line 1 Lower O2 - 1L
Line 2 H2 (MFC Missing)
Line 3 HE - 600SCCM
Line 4 SiH4 - 400SCCM
Line 5 AR - 1L
Line 6 HE - 600SCCM
Line 7 H2 - 1L
Line 8 SiH4 - 50SCCM
Line 9 AR - 50SCCM
Line 10 NF3 - 400SCCM
Line 11 NF3 - 15SLM
Line 12 Ar - 3L
Line 13 Lower
Line 13 Upper N2 PURGE
Plasma Detect YES
B - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD PALLET
Gas Pallet
Line 1 Upper N2 PURGE
Line 1 Lower O2 - 1L
Line 2 H2 (MFC Missing)
Line 3 HE - 600SCCM
Line 4 SiH4 - 400SCCM
Line 5 AR - 1L
Line 6 HE - 600SCCM
Line 7 H2 (MFC Missing)
Line 8 SiH4 - 50SCCM
Line 9 AR - 50SCCM
Line 10 NF3 - 400SCCM
Line 11 NF3 - 15SLM
Line 12 Ar - 10SLM
Line 13 Lower
Line 13 Upper N2 PURGE
Plasma Detect YES
C - (Z7) ULTIMA X HDP-CVD PALLET
Gas Pallet
Line 1 Upper N2 PURGE
Line 1 Lower O2 - 400SCCM
Line 2 NF3 - 400SCCM
Line 3 H2 - 1L
Line 4 SiH4 - 400SCCM
Line 5 HE - 600SCCM
Line 6 AR - 50SCCM
Line 7 H2 - 1L
Line 8 SiH4 - 50SCCM
Line 9 HE - 600SCCM
Line 10 NF3 - 400SCCM
Line 11 NF3 - 15SLM
Line 12 Ar - 3L
Line 13 Lower
Line 13 Upper N2 PURGE
Plasma Detect YES
Mainframe Options
Process Chamber Isolation
CHAMBER A SLIT VALVE
CHAMBER B SLIT VALVE
CHAMBER C SLIT VALVE
Mainframe and FI Alignment MF AND FI ALIGNMENT FIXTURES
CFW Manifold YES
LL and Xfer Ch Vac and Vent
Mainframe Type AP MAINFRAME
SWLL Doors AP STD SWLL DOOR
SWLL Cooldown
Wafer Hoop Type WAFER HOOP
Transfer Chamber Robot Blades
Transfer Chamber Robots STD REACH DUAL BLADE ROBOT
Transfer Chamber Lid CLEAR LID
Factory Interface Options
WIP Delivery Type OHT WIP DELIVERY
Number of Load Ports 2 LOAD PORTS
Atmospheric Robots KAWASAKI 2 FIXED ROBOTS WITH EDGE GRIP(C61D-B001)
Load Port Types ENHANCED 25 WAFER FOUP
E84 Carrier Handoff UPPER E84 INTERFACE ENABLED OHT
OHT Light Curtain LIGHT CURTAIN
Operator Access Switch YES
Configurable Colored Lights YES
Light Towers
Air Intake Systems
Remote Options
Sytem Monitors Selected Option
Monitor 1 FLAT PANEL WITH KEYBOARD ON STAND
Monitor 2
Heat Exchanger Selected Option
Heat Exchanger Type NA
Umbilicals Selected Option
Heat Exchanger Hose Length
Pumps Selected Option
Pump Supplied By NA
Pump Interface Type NA
AC Racks Selected Option
Facilities UPS Interface YES
Chamber Generator Type ENI GENERATOR RACK
SMC HX H2O Connection NA
QIL HX Qty
Ch A RF Generator Type ENI GENERATOR RACK (SPECTRUM B-10513)
Ch B RF Generator Type ENI GENERATOR RACK (SPECTRUM 11002-00)
Ch C RF Generator Type ENI GENERATOR RACK (SPECTRUM 11002-00)
Heat Exchanger Cable Length
Pump Interface Cable Length
Monitor 1 Cables
Monitor 2 Cables
Missing Parts
Turbo Throttle Valve
Ch#B Gas Panel DIO Board
HDD
Currently warehoused
2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima Xは、半導体製造のために設計された次世代のハイスループット、ウェーハサイズの原子炉です。8インチウェーハまで対応可能で、材料の積層からトレンチ、スペーサ、インターコネクトまで、幅広いプロセス機能を提供します。この装置は、半導体産業における最先端の製造需要を満たすように設計されています。AMATはUltima Xプラットフォームにより、高度なチップ開発プロジェクトに必要な拡張プロセス機能を備えた統合ウェーハ製造ソリューションを提供します。AMAT Centura Ultima Xには、9キロワットのプロセスチャンバーと3キロワットのセカンドレベルの補助チャンバーを備えた2つのウェーハハンドリングチャンバーがあります。両チャンバーは、高真空シールを備えた一般的なプロセスバルブステーションに接続されており、プロセスガスを供給するための共通のガス分配システムを備えています。原子炉のガス分配ユニットは、単一の中央自動コントローラによって制御され、機械全体にわたって信頼性の高い均一なガス分配を提供します。Ultra Xは電子絶縁バルブステーションも備えており、プロセスガスに関連する潜在的な汚染を最小限に抑えることができます。Ultima Xはまた、低温アニーリングモジュールを提供し、ウェーハを可能な限り低温で処理して最適な性能を発揮します。このツールは、追加のセンサー、スパッタリングターゲット、プラズマ処理チャンバなど、さまざまな追加機能とアクセサリで構成することもできます。APPLIED MATERIALS Centura Ultima Xは、水平および垂直のホットウォールチューブ炉や多段式コールドウェーハ炉など、さまざまな炉の設計との互換性を目的に設計されています。共通の半導体制御システムと一貫したインタフェースを備えているため、すべての製造ニーズに対応できるオールインワンの統合ソリューションです。Ultima Xはまた、ウェーハを周囲に露出させることなく、追加のメタライゼーションレイヤーをレイヤーすることができる埋め込みメタルモジュールを含む、さまざまな高度な機能を提供します。この機能は、サイクル時間を短縮し、デバイスの製造を効率的かつ費用対効果の高いものにするのにも役立ちます。Ultima Xの高度な制御システムは、すべてのウェーハでプロセスレシピと温度が一貫していることを保証します。結論として、Centura Ultima Xは、幅広いプロセス機能を提供する高度なハイスループット半導体製造ツールです。Ultima Xの高度に統合されたプラットフォームは、信頼性の高いプロセスを作成するのに役立ちます。また、高度な機能により、サイクルタイムを短縮し、信頼性の高いパフォーマンスと長寿命の信頼性を備えたコスト効率の高いウェーハを作成できます。
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