中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE #116326 を販売中
この商品は既に販売済みのようです。下記の同じようなプロダクトを点検するか、または私達に連絡すれば私達のベテランのチームはあなたのためのそれを見つけます。
タップしてズーム
販売された
ID: 116326
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1998
CVD-HDP system, 8"
Wafer shape: SNNF
SMIF: no
Chamber A: Ultima TE
Chamber B: Ultima STD
Chamber E: MS cool
Chamber F: orienter
Load lock type: wide body
Chamber A:
Nozzle: Side 24 ALN
Top baffle: 4 hole ALN
Turbo pump: STP-XH 2603P
Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr
Clean method: Top Mount RPS AE
ESC: without WTM
Chamber B:
Nozzle: Side 24 ALN
Top baffle: 1 hole ALN
Turbo pump: ET1600WS
Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr
Clean method: microwave
ESC: without WTM
Electrical:
Line frequency: 50/60Hz
Line voltage: 200/208V
Line amperage: 320A
Facility UPS interface: yes
GFCI: 100MA
System monitor:
1st: TTW
2nd: stand alone
3rd: yes
Mainframe:
System placement: TTW
Robot type: extended HP robot
Robot blade: ceramic
Load lock wafer mapping: enhanced
Load lock slippage sensor: yes
N2 purge type: STEC 4400M
Generator rack:
ETO 80-S09-uW
ENI AM200
Ch. A: Top / side / bias
Ch. B: Top / side / bias
(2) Heat exchangers:
1: SMC
2: AMAT 1
Umbilicals: 55ft
Dry pumps:
Chamber A: under cleaning
Chamber B: under cleaning
Load lock
Transfer
Gas delivery option:
VALVES: FUJIKIN 5 Ra max.
Filters: Pall
Transducers: MKS with display
Regulators: VeriFlo
Single line drop (SLD): yes
SLD gas lines feed: top
System cabinet exhaust: top
Gas pane configuration:
Chamber A:
O2 500sccm UNIT 8161
AR 300sccm HORIBAR
SiH4 200sccm STEC 7400
H2 1slm STEC 7400
HE 400sccm STEC 7400
SiH4 50sccm STEC 7400
H2 1slm STEC 7400
HE 400sccm STEC 7400
AR 1slm STEC 7400
NF3 2lm UNIT 8161
Chamber 4:
O2 400sccm STEC 7440
AR 300sccm STEC 7440
SiH4 200sccm HORIBAR
50%PH3/SiH4 200sccm STEC 7440
AR 50sccm STEC 7440
SiH4 20sccm STEC 7440
50%PH3/SiH4 20sccm STEC 7440
NF3 2slm HORIBAR
AR 2slm STEC 7440
O2 not shown
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE （Tri-Energy）は、半導体材料の堆積用に設計された半導体加工炉です。この原子炉は独自のトライエネルギー（TE）装置を備えており、高レベルのプロセス均一性を維持しながら高スループットを提供します。3段階の加熱システムは、これまで以上に高い精度と再現性を提供し、最高レベルの歩留まりと信頼性を実現します。AMAT Centura Ultima TEは超高温成膜が可能です。無線周波数（RF）ユニットを使用して、誘導、対流、および放射加熱の正確に調整された組み合わせでウェーハを加熱します。これにより、高温プロセスで使用される揮発性および反応性のある材料を処理し、優れた電気特性と熱特性を有する堆積層を得ることができます。さらに、原子炉には独自のデュアルモード不活性ライニングがあり、成膜副生成物や残留物から部品を保護します。APPLIED MATERIALS Centura Ultima TEには、プロセスをさらに簡単かつ正確にする内蔵のハードウェアとソフトウェアも付属しています。TEマシンは、ユーザーが迅速かつ正確に様々な堆積ステップを実行することができますオンボード直感的なタッチスクリーンコントローラを使用しています。さらに、TEツールは他の機器やシステムとのインターフェースが可能で、プロセス全体を正確に制御できます。原子炉にはさまざまなオプションがあり、ラボや生産フロアで多目的で強力なツールとなっています。超高速化から低速化、安定化まで、さまざまな層の成長と堆積速度に対応できるように構成できます。さらに、広範囲の温度制御と高品質コーティングは、水素終端ダイヤモンド（HTD）、溶液成長テンプレート（SGT）、原子層成膜（ALD）など、さまざまな材料システムとプロセスをサポートしています。Centura Ultima TEは、半導体産業において優れた性能と優れた結果を提供する先進的な原子炉です。その高度な加熱アセットは、高いプロセスの均一性と歩留まりを保証します。他のシステムとのインタフェースにより、プロセス全体を正確に制御できます。様々な材料成膜オプションにより、幅広い成膜用途に対応できる汎用性とパワーを備えています。さらに、直感的なタッチスクリーンコントローラとデュアルモードの不活性ライニングにより、信頼性が高く安全なツールとなっています。これらの機能はすべて、AMAT/APPLIED MATERIALIES Centura Ultima TEを半導体加工炉のトップチョイスにします。
まだレビューはありません