中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP #9223731 を販売中
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ID: 9223731
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2001
CVD System, 8"
System general:
Mainframe: Centura 5200 DCVD
Wafer type: Notch
Chamber position A, B, C: HDP Ultima plus chamber, 8"
Chamber E position: Multi-slot cool down chamber
Chamber F position: Wafer orienter chamber
System controllers:
SBC V452 Board
VGA Board
P3 Board
Facility and safety configurations:
EMO Switch type: Turn to release EMO
EMO Guard ring
EMO Shunt trip
Bracket standoff adapter
Water and smoke detect output: Alarm
Facility power indicator
System water leak detector
Main frame:
Facilities type: Phase II
System placement: Stand alone
Front panel: Steel white polymer finish
Facilities connection: VCR
Facilities orientation: Mainframe facilities bottom connection
Facilities water: Phase II water
Controller IO interface option: I/O Expansion base card with seriplex gas panel card
Interface: GEM Interface
Load lock chamber type: Narrow body
Transfer chamber:
Transfer chamber manual lid lift
Transfer chamber sensor
Process chamber slit valve A, B, C: Bonded door with KALREZ O'ring
Robot type: HP+ Robot (Dual speed)
Basic wafer on blade detector
N2 Purge MFC type: Unit instrument (UFC-1661) 1L
Buffer purge slow vent flow: 500 sccm
Dedicated transfer rough pump: EDWARDS Pump interface
Mainframe inert gas lines:
Chamber N2 supply
Chambers N2 surface finish: 10 Ra
Mainframe N2 supply
Mainframes N2 surface finish: 10 Ra
Chamber A configuration:
Type: HDP Ultima plus chamber
Frequency type: Top, side and bias RF
Heater type: 0190-46458
Thermalogic board
Manometer type: DUAL 10/100 TORR MKS
Throttle valve: Turbo throttle valve plus rough throttle valve
Gate valve type: 3870-04276, Pendulum ISO250 (Actuator 52.3)
Turbo pump type: EBARA ET1600W
Turbo pump controller: 1604W
Turbo pump ring type:
0010-11762, CTR Ring assy, HDP-CVD Ultima plus
Chamber O'ring type: KALREZ 9100
Clean method: RPS
0190-26744, MKS Astroni AX7670
Clean gas: NF3
Chamber A process kit:
0010-03090 ESC Cathode (WTM Type)
0040-18219 ESC (WTM Type)
0190-18430 WTM Probe
0200-18109 Collar
0200-18081 Cover ceramic
0200-01009 Top nozzle
0200-18093 Side nozzle
0200-01006 Dome
0040-04650 Gas ring with (24) nozzles
0200-40156 Lift pin ceramic
Chamber B configuration:
Type: HDP Ultima plus chamber
Frequency type: Top, side and bias RF
Heater type: 0190-46458 Thermalogic board
Manometer type: Dual 10/100 TORR MKS
Throttle valve: Turbo throttle valve plus rough throttle valve
Gate valve type
3870-04276, Pendulum ISO250 Actuator 52.3
Turbo pump type: EBARA ET1600W
Turbo pump controller: 1606W TF
Turbo pump ring type:
0010-11762, CTR Ring assy, HDP-CVD Ultima plus
Chamber o ring type: KALREZ 9100
Clean method: RPS
0190-26744RPS, MKS Astroni AX7670
Clean gas: NF3
EDWARDS Rough pump interface
0010-03090 ESC Cathode (WTM Type)
0040-18219 ESC (WTM Type)
0190-18430 WTM Probe
0200-18109 Collar
0200-18081 Cover ceramic
0200-01009 Top nozzle
0200-18093 Side nozzle
0200-01006 Dome
0040-04650 Gas ring with (24) nozzles
0200-40156 Lift pin ceramic
Gas panel configurations:
Gas panel type: HP 10 Ra
Cabinet exhaust: Top exhaust
Gas panel door
Gas feed: Single-line drop (Bottom feed)
Valve type: FUJIKIN 5 Ra max
Filter: MILLIPORE Ni 10 ra max
Fitting: VCR
MFC: SEC-4400 MC (D-Sub 9 pins)
Veriflo Regulator
MKS Transducer with display unit
Gas line configuration chamber A, B, C:
Gas pallet: HDP Ultima plus
Gas feed: Single-line drop (Bottom feed)
Automatic gas line purging capability
Gas 1: SiH4, 200 sccm
Gas 2: NF3, 2000 sccm
Gas 3: SiH4 Top, 20 sccm
Gas 4: SIF4, 20 sccm
Gas 5: AR Top, 50 sccm
Gas 6: AR, 300 sccm
Gas 7: HE, 200 sccm
Gas 8: SIF4, 100 sccm
Gas 9: O2, 400 sccm
Gas 10: AR-MW, 2000 sccm
System controller:
Controller Type: Phase I Controller
Controller GFCI: 30MA GFCI
Controller UPS: Facilities ups interface
Controller electrical interface: Top feed AC cables
Controller exhaust: Top exhaust
Cursor type: Blinking cursor
Heat exchanger type:
SMC Themo chiller, INR-498-001D
Heat exchanger water fittings: Stainless steel
Generator rack:
Chamber A, B, and C top RF generator: ENI NOVA-50A
Chamber A, B and C side RF generator: ENI NOVA-50A
Chamber A, B and C bias RF generator: ENI GHW-50A
Power: 200/208 VAC, 50 Hz, 400 A
2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP Reactorは、ドライインプレイスのエッチングとコンフォーマルコーティングの世界で先進的なツールです。この装置は、製造業者が最小限の労力と最小限の複雑さで高精度を達成できるように設計されています。HDPは、高密度プラズマの略で、さまざまなプロセスで最高レベルの性能とサイクルタイム制御を提供するように設計された最新のプラズマ技術です。AMAT Centura Ultima HDP Reactorは、世界中の半導体メーカーのますます複雑なニーズに対応しています。システムの高度な機能とモジュラーアーキテクチャにより、幅広いアプリケーションに迅速な実装、柔軟性、拡張性を提供します。これには、超薄型コンフォーマルコーティング、深反応性イオンエッチング（DRIE）、電気めっき銅リフトオフ（ECLO）、およびその他の用途が含まれます。応用材料CENTURA ULTIMA+HDPリアクターは、最適化されたスループットとサイクルタイム制御により、高い生産性を提供します。多周波数RFプラズマ源と水冷カソードにより、小型のフィーチャーサイズ制御と低フィルム応力を実現し、リニアマスフローコントローラによりプロセスガスを精密に制御できます。モジュラーアーキテクチャにより、混乱を最小限に抑えて再構成され、複数のチャンバで構成されるため、多数の部品を並列に高速かつ正確に処理できます。HDPリアクターは、エッチングおよびコンフォーマルコーティングプロセスを最適化するためのプラズマソース技術の最新の進歩を備えています。新設計のプラズマ源とチャンバーにより、高アスペクト比のエッチングとコーティングが可能です。HDPリアクターの高度なプロセス制御機能は、厳密なプロセス分布を達成するのに役立ち、オペレータによる手動調整の必要性を軽減します。このユニットのリアルタイムプロセスモニタリングにより、迅速な意思決定と迅速な是正措置が可能になります。この機械に速い間違いのフィードバックおよび最低のダウンタイムのための統合された理性的な診断があります。オンラインシミュレーション機能により、ユーザーはレシピを素早く調整し、長いセットアップ時間をかけずに必要な変更を行うことができます。さらに、データ出力を使用して、関連するプロセスの詳細を記録し、プロセス監視機能を向上させることができます。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA+HDPリアクターは、ドライインプレイスのエッチングとコンフォーマルコーティングの世界で最新かつ最先端のツールです。このツールは、高精度で再現性の高い信頼性と効率的な資産を求める半導体メーカーのために設計されています。その高度な機能とモジュラーアーキテクチャにより、迅速な実装と拡張性が可能になり、混乱を最小限に抑えて再構成し、さまざまなアプリケーションをカバーするために複数のチャンバーで構成することができます。AMAT CENTURA ULTIMA+HDPリアクターは、高い生産性を提供し、プラズマソース技術の最新の進歩を備えており、ユーザーは複雑なプロセスに必要な精度を達成することができます。
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