中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD #9063643 を販売中
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販売された
ID: 9063643
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
Etcher, 8"
(2) Ultima chamber
(1) Ultima plus chamber
Technology :IMD
Wafer Size : 8"
Wafer Shape : SNNF (Semi Notch No Flat)
Software Version : B4.3.14
CHAMBER TYPE AND LOCATION
Ch A : Ultima HDP-CVD
Ch B : Ultima HDP-CVD
Ch C : Ultima + HDP-CVD
Ch E : Multislot Cool Down
Ch F : Orientor
CHAMBER A,B Ultima HDP-CVD :
Nozzle : Long/Long Side
Clean Gas Distribution : Baffle
Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA
Wafer Temperature Monitoring : Yes
Top Gas Feed : Without Top O2
Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR
Clean Method : Microwave
CHAMBER C - Ultima + HDP-CVD :
Nozzle : Long/Long Side
Clean Gas Distribution : Baffle
Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA
Wafer Temperature Monitoring : Yes
Top Gas Feed : Without Top O2
Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR
Clean Method : Top Mount
EXISTING ELECTRICAL REQUIREMENTS
Line Frequency : 60Hz
Line Voltage : 200/208V
Line Amperage : 600A Platform
EXISTING SAFETY EQUIPMENT :
EMO type : Turn to release EMO
EMO Guard Ring : Yes
System Labels : English w/Chinese Non-simplified
System Smoke Detector : Controller
EXISTING MAINFRAME :
Mainframe Type : Ultima HDP w/Multislot
Frame Type : Standard Frame
System Placement : Through the Wall
Mainframe Skins : No
Mainframe Exhaust Duct : No
Mainframe Facilities Connection : Back
Robot Type : HP Robot
Robot Blade : Ceramic
Loadlock Cassette : Narrow Body
Narrow body Loadlocks : Cassette Present Sensor
Loadlock Wafer Mapping : Basic
N2 Purge Type : STEC 4400MC 10 Ra Max
EXISTING GAS DELIVERY :
Gas Panel Surface Finish : Standard Gas Panel
MFC Type : STEC 4400MC 10 Ra Max
Valves : Fujikin 5 Ra Max
Filters : Pall Ni 10 Ra Max
Transducers : MKS w/ Display
Regulators : Veriflo
System Cabinet Exhaust : Top
Gas Panel Gas/Flow Direction Labels : Yes
APC Seriplex Cover : Yes
Gas Panel Doors : Solid
Gas Pallet Configuration :
Chamber A, B, C
Gas Stick/Process Gas/MFC size/Regulator/Transducer
#1 SiF4 100 Y Y
#2 O2 400 Y Y
#3 SiH4 200 Y Y
#4 Ar 300 Y Y
#5 SiH4 20 Y Y
#6 Ar 50 Y Y
#7 NF3 2000 Y Y
#8 Ar 2000 Y Y
REMOTES :
RF Generator Rack - Ultima Gen. Rack
ASTEX 80S09mW (3)
Quantity : Two
Ultima Stand-Alone RF Generator Rack : Yes
Generator Rack Cooling - RF Gen Rack Manifold with Quick Disconnect Ultima Gen Rack H20 Connection - Barbed Brass
Existing Heat Exchanger : SMC Thermo
Umbilicals :
System Controller Signal Cable Length : 55ft
RF Gen Rack Cable Length : 50ft
Ultima Stand-Alone Generator Rack : 98 ft
HX Hose Length : 50ft
HX Cable Length : 50ft
Pump Cable : 50ft
Ultima Microwave Generator Cable Length : 50 ft
Ultima WTM Cable Length : 32.8 ft (10m)
Vacuum Pumps, Exhaust Scrubber not included in sale
Currently crated and stored
System Can be inspected
1999-2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD （High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition）原子炉は、最先端の薄膜材料を大量に生産するために設計されたモジュール式、低コストの垂直炉です。この原子炉は、高密度のプラズマを大量に使用する革新的な特許取得済みの設計を採用しており、蒸着速度と歩留まりの向上を可能にしています。また、太陽電池、フラットパネルディスプレイ、光学コーティング、先進半導体デバイスなどの用途にも最適です。AMAT Centura Ultima HDP CVD炉は、RF駆動の高密度プラズマ（HDP）を使用して低温で反応を駆動し、エネルギー効率が高く、高性能の薄膜コーティングを製造するのに理想的です。この技術はまた、伝統的にCVDプロセスに関連する高価なマテリアルハンドリングおよびクリーニング手順の多くを排除し、コストを最小限に抑え、全体的な歩留まりを向上させます。この装置は非常に構成可能であり、金属や誘電体のターゲット、誘電体の化合物、ガスのターゲットなど、幅広いプラズマ源や材料を選択可能な順序で使用することができます。APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD炉の中心には、サブモジュールまたはワークスペースがあり、単一のプラズマ源と統合ガスケアシステムを備えた完全に囲まれたチャンバーです。このガスケアユニットは、蒸着プロセスで使用されるガスの連続的な流れが常に最適なレベルにあることを保証し、正確な結果を得ることができます。中央に取り付けられたターゲットホルダーは、被覆する基板をプラズマで回転させることを保証します。高密度プラズマと均一な蒸着により、基板の温度が低く均一に保たれ、材料の特性が維持され、表面全体に高品質で正確にパターン化された蒸着が保証されます。このマシンの高度な制御ソフトウェアは、直感的なユーザーインターフェイスを提供し、プロセスパラメータを正確に制御し、堆積プロセスをターゲットに最適化することができます。Centura Ultima HDP CVD炉は、最先端の薄膜蒸着を含むあらゆる生産ラインに最適です。革新的で費用対効果の高い設計により、低コストかつ最小限のオーバーヘッドで高スループット生産が可能になります。これにより、薄膜成膜の可能性を最大限に引き出し、デバイス性能を向上させたい産業メーカーにとって、このツールは魅力的な選択肢となります。
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