中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD #62203 を販売中
この商品は既に販売済みのようです。下記の同じようなプロダクトを点検するか、または私達に連絡すれば私達のベテランのチームはあなたのためのそれを見つけます。
タップしてズーム
販売された
ID: 62203
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
Etcher, 8"
(2) Ultima chamber
(1) Ultima plus chamber
Technology :IMD
Wafer Size : 8"
Wafer Shape : SNNF (Semi Notch No Flat)
Software Version : B4.3.14
CHAMBER TYPE AND LOCATION
Ch A : Ultima HDP-CVD
Ch B : Ultima HDP-CVD
Ch C : Ultima + HDP-CVD
Ch E : Multislot Cool Down
Ch F : Orientor
CHAMBER A,B Ultima HDP-CVD :
Nozzle : Long/Long Side
Clean Gas Distribution : Baffle
Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA
Wafer Temperature Monitoring : Yes
Top Gas Feed : Without Top O2
Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR
Clean Method : Microwave
CHAMBER C - Ultima + HDP-CVD :
Nozzle : Long/Long Side
Clean Gas Distribution : Baffle
Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA
Wafer Temperature Monitoring : Yes
Top Gas Feed : Without Top O2
Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR
Clean Method : Top Mount
EXISTING ELECTRICAL REQUIREMENTS
Line Frequency : 60Hz
Line Voltage : 200/208V
Line Amperage : 600A Platform
EXISTING SAFETY EQUIPMENT :
EMO type : Turn to release EMO
EMO Guard Ring : Yes
System Labels : English w/Chinese Non-simplified
System Smoke Detector : Controller
EXISTING MAINFRAME :
Mainframe Type : Ultima HDP w/Multislot
Frame Type : Standard Frame
System Placement : Through the Wall
Mainframe Skins : No
Mainframe Exhaust Duct : No
Mainframe Facilities Connection : Back
Robot Type : HP Robot
Robot Blade : Ceramic
Loadlock Cassette : Narrow Body
Narrow body Loadlocks : Cassette Present Sensor
Loadlock Wafer Mapping : Basic
N2 Purge Type : STEC 4400MC 10 Ra Max
EXISTING GAS DELIVERY :
Gas Panel Surface Finish : Standard Gas Panel
MFC Type : STEC 4400MC 10 Ra Max
Valves : Fujikin 5 Ra Max
Filters : Pall Ni 10 Ra Max
Transducers : MKS w/ Display
Regulators : Veriflo
System Cabinet Exhaust : Top
Gas Panel Gas/Flow Direction Labels : Yes
APC Seriplex Cover : Yes
Gas Panel Doors : Solid
Gas Pallet Configuration :
Chamber A, B, C
Gas Stick/Process Gas/MFC size/Regulator/Transducer
#1 SiF4 100 Y Y
#2 O2 400 Y Y
#3 SiH4 200 Y Y
#4 Ar 300 Y Y
#5 SiH4 20 Y Y
#6 Ar 50 Y Y
#7 NF3 2000 Y Y
#8 Ar 2000 Y Y
REMOTES :
RF Generator Rack - Ultima Gen. Rack
ASTEX 80S09mW (3)
Quantity : Two
Ultima Stand-Alone RF Generator Rack : Yes
Generator Rack Cooling - RF Gen Rack Manifold with Quick Disconnect Ultima Gen Rack H20 Connection - Barbed Brass
Existing Heat Exchanger : SMC Thermo
Umbilicals :
System Controller Signal Cable Length : 55ft
RF Gen Rack Cable Length : 50ft
Ultima Stand-Alone Generator Rack : 98 ft
HX Hose Length : 50ft
HX Cable Length : 50ft
Pump Cable : 50ft
Ultima Microwave Generator Cable Length : 50 ft
Ultima WTM Cable Length : 32.8 ft (10m)
Vacuum Pumps, Exhaust Scrubber not included in sale
Currently crated and stored
System Can be inspected
1999-2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVDは、独自のホットウォールデリバリープラズマ（HWDP）加工チャンバーを備えた化学蒸着（CVD）炉です。この原子炉は、熱およびプラズマの均一性を最適化した様々な材料の化学蒸着を容易にするように特別に設計されています。原子炉は、金属、シリコン、セラミックなどの基板上に材料の層を作成するために、化学的前駆体を使用しています。この原子炉は、高密度プラズマ補助蒸着（HDP）の非常に薄いコンフォーマル層を生成する能力を備えており、半導体包装や高度な相互接続から生物医学およびナノテクノロジー関連のアプリケーションに至るまで、用途に最適なツールです。AMAT Centura Ultima HDP CVDリアクターは、CVDプロセス中に最大限の均一性と再現性を提供するように設計されています。HWDP処理チャンバの設計により、ホットプラズマ源との接触時にプラズマ状態に変換される前駆体を正確に蒸発させることができます。このプラズマ源は高い均一性を持ち、基板全体にわたって一貫した厚さのコーティングを実現します。さらに、HWDPチャンバの設計により、冷却の必要性がなくなり、より高い温度制御が可能になり、層密度が向上します。チャンバー全体に温度センサーを使用することで、層均一性と特性制御を向上させるための正確な温度制御も可能です。APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVDリアクターも、高いスループット性能を促進するように設計されています。処理チャンバは、低圧で動作するように設計されており、前駆体およびプロセス制御ガスの高い流量を可能にします。この高スループットは、最高レベルのプロセスと品質管理を維持しながら、生産量と歩留まりを最大化するために活用することができます。Centura Ultima HDP CVDは、さまざまなCVDアプリケーションに最適なツールです。半導体パッケージング用の高密度層の作成から、生物医学材料やナノテクノロジーまで、この原子炉は、均一性と再現性の向上したコーティングの成膜を容易にするために設計された機能を備えています。この原子炉は、最先端の技術のためのHDP層の堆積を可能にする、層の厚さ、温度、および均一性の正確な制御を必要とするアプリケーションに最適です。
まだレビューはありません