中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD #115605 を販売中
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販売された
ID: 115605
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
Etcher, 8"
(2) Ultima chambers
Technology :IMD
Wafer Size : 200mm
Wafer Shape : SNNF (Semi Notch No Flat)
Software Version : B4.3.14
Ch A : Ultima HDP-CVD
Ch B : Ultima HDP-CVD
Ch D : Ultima + HDP-CVD
Ch E : Multislot Cool Down
Ch F : Orienter
CHAMBER A,B Ultima HDP-CVD :
Nozzle : Long/Long Side
Clean Gas Distribution : Baffle
Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA
Wafer Temperature Monitoring : Yes
Top Gas Feed : Without Top O2
Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR
Clean Method : Microwave
CHAMBER D - Ultima + HDP-CVD :
Nozzle : Long/Long Side
Clean Gas Distribution : Baffle
Turbo Pump : Ebara ET1600WS w/ HVA
Wafer Temperature Monitoring : Yes
Top Gas Feed : Without Top O2
Dual Independent He Control : Standard 10/10 TORR
Clean Method : Top Mount
Line Frequency : 60Hz
Line Voltage : 200/208V
Line Amperage : 600A Platform
EMO type : Turn to release EMO
EMO Guard Ring : Yes
System Labels : English w/Chinese Non-simplified
System Smoke Detector : Controller
EXISTING MAINFRAME :
Mainframe Type : Ultima HDP w/Multislot
Frame Type : Standard Frame
System Placement : Through the Wall
Mainframe Skins : No
Mainframe Exhaust Duct : No
Mainframe Facilities Connection : Back
Robot Type : HP Robot
Robot Blade : Ceramic
Narrow body Loadlocks : Cassette Present Sensor
Loadlock Wafer Mapping : Basic
N2 Purge Type : STEC 4400MC 10 Ra Max
Gas Panel Surface Finish : Standard Gas Panel
MFC Type : STEC 4400MC 10 Ra Max
Valves : Fujikin 5 Ra Max
Filters : Pall Ni 10 Ra Max
Transducers : MKS w/ Display
Regulators : Veriflo
System Cabinet Exhaust : Top
Gas Panel Gas/Flow Direction Labels : Yes
APC Seriplex Cover : Yes
Gas Panel Doors : Solid
Gas Pallet Configuration :
Chamber A, B, D
Gas Stick/Process Gas/MFC size/Regulator/Transducer
#1 SiF4 100 Y Y
#2 O2 400 Y Y
#3 SiH4 200 Y Y
#4 Ar 300 Y Y
#5 SiH4 20 Y Y
#6 Ar 50 Y Y
#7 NF3 2000 Y Y
#8 Ar 2000 Y Y
RF Generator Rack - Ultima Gen. Rack
Chamber A, B :ASTEX 80S09mW (2)
Chamber D : ENI Genesis Nova -50A-04
Ultima Stand-Alone RF Generator Rack : Yes
Generator Rack Cooling - RF Gen Rack Manifold with Quick Disconnect
Ultima Gen Rack H20 Connection - Barbed Brass
Heat Exchanger : SMC Thermo
System Controller Signal Cable Length : 55ft
RF Gen Rack Cable Length : 50ft
Ultima Stand-Alone Generator Rack : 98 ft
HX Hose Length : 50ft
HX Cable Length : 50ft
Pump Cable : 50ft
Ultima Microwave Generator Cable Length : 50 ft
Ultima WTM Cable Length : 32.8 ft (10m)
Vacuum Pumps, Exhaust Scrubber not included in sale
System Can be inspected
Currently Crated
2000 vintage.
AMAT Centura Ultima High Density Plasma （HDP） Chemical Vapor Deposition （CVD）リアクターは、小型および大型ウェハサイズの両方において、フィルムとフィルムスタックの正確で正確で費用対効果の高い成膜を提供するオールインワンプロセス装置です。このCVDリアクターは、様々な複雑な基板に超薄膜を堆積させるために、高い蒸着速度で高効率のプラズマ源を利用しています。この高性能ツールは、成熟したプロセスウィンドウ、信じられないほどの再現性、およびファブ環境における比類のないパフォーマンスと堅牢性を約束します。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVDは、高度なプラズマ源を高出力および周波数で利用し、蒸着速度と均一性を正確に制御します。このシステムは、高密度プラズマ動作に対応できるように設計されており、幅広い薄膜材料に対して高い均一性と高い成膜スループットを実現することができます。このユニットは、大径（200mm）および小径（150mm）の基板上に正確で再現可能な蒸着を提供し、複雑な基板上のフィルム蒸着のための業界をリードする原子炉です。AMAT Centura Ultima HDP CVDマシンは、さまざまな安全性と人間工学に基づいた機能で設計されており、ユーザーの安全性と操作の容易さを確保します。ロボットアームは、安全で信頼性の高いウェハトランスファーを提供し、トータルプロセスサイクルを最小限に抑えるように設計されています。このツールのシングルチャンバー設計により、チャンバ間の転送操作が排除されるため、安全性が向上します。資産の最適化された人間工学は、人員に安全な環境を提供し、オペレータのエラーやその他の事故の可能性を減らします。APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVDは、正確で正確なフィルム蒸着が可能な高性能モデルです。この装置は、高度なプラズマ源を使用し、基板のサイズや形状の範囲にわたって高い均一性を提供します。このシステムは人間工学に基づいて、安全で、高度な薄膜材料の範囲と完全に互換性があります。このCVDリアクターは、大規模な半導体製造設備と研究開発環境の両方において、フィルム成膜に最適なツールです。
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