中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Tectra #293821114 を販売中
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ID: 293821114
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1998
Modified Chemical Vapor Deposition (MCVD) system, 8"
Chamber A Ti
Chamber B TiN
Chamber D
Chamber E
Chamber F
HP＋robot
Wide-Body Standard Mechanical Interface (SMIF) loadlock chamber
STEEL HEAD 0 Heat Exchanger (HE)
Dry pump
EBARA AA70W Chamber A
KASHIYAMA SD600PV-31 Chamber
EBARA AA70W Chamber D
EBARA AA40W Buff
EBARA AA40W LoadLock
SHINKO SEIKI SW-50 ASM Chamber A
SHINKO SEIKI SW-50 ASM Chamber B
SHINKO SEIKI SW-50 ASM Chamber D
Quartz insulator
(2) Face plates
(20) Screw chamber ISO clamps
(110) KALREZ O-rings
(8) Dovetail seals
(40) Pin lift heater tins
(5) Top liner ring tins
(4) Slit liner tins
(4) Shim tin
(2) Shield Remote Procedure Calls (RPC)
(4) Quartz insulator Remote Procedure Calls (RPC)
(2) Pedestal shield Remote Procedure Calls (RPC)
(2) Pedestal Remote Procedure Calls (RPC)
(5) Outer shield Chemical Vapor Deposition (CVD) ti
(4) Lid liners ti
(4) Isolator lid flange ti
(4) Isolator chambers ti
(4) Insert liners ti
(2) Gas trench Remote Procedure Calls (RPC)
(5) Face plate tins
(5) Face plates nickel ti
(4) Edge ring heaters ti
(4) Blocker plates ti
(2) Belljar Remote Procedure Calls (RPC)
Liner exhaust ti
(2) Ceramic heaters
TMP340MC Turbo pump
(7) Clamp isolator
(3) Spool exhaust CHB ticl4 tins
Quartz insulator
Plate lid plated ticl4 ti, 8"
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Tectraリアクターは、高度な半導体技術プロセスのニーズを満たすように設計された単一のウェーハ反応イオンエッチング装置です。高密度、高アスペクト比パターニング、ボンドフィルム除去、フォトレジスト除去などの用途に最適です。AMAT Centura Tectraシステムは、アプリケーションの特定のエッチング要件に合わせて構成された幅広いRIEソリューションです。最新のエッチング速度制御モジュール、クラウド特性評価、温度制御、プラズマプロセス制御、および監視アプリケーションで構築されています。このユニットは、最もコスト効率の高い方法で、可能な限り迅速なセットアップ時間、最高のスループット、および低粒子生成を備えた精密プロセス機能を提供します。APPLIED MATERIALTS Centura Tectraマシンは、構成に応じて最大20個のプロセスチャンバーを稼働させる複数のチャンバ構成を備えています。このツールは、大きなRF電源、プログラム可能な電力制御、および各プロセスチャンバーへのRF出力の制御で構築されています。また、精密で信頼性の高いプラズマプロセス制御のための独自の化学供給資産を備えています。また、高解像度イメージング装置を搭載しており、リアルタイムでプロセス結果を監視することができます。さらに、このプラットフォームは、温度制御と振動軽減機能を備えた高度なセンシングシステムで構成されており、プロセス全体を通じて正確かつ再現可能な結果を実現します。Centura Tectraシステムには、シングルチャンバーからデュアルチャンバーまたはマルチチャンバー構成まで、幅広いチャンバーオプションがあります。また、プロセス最適化のためのクイックエッチレート制御、および高いエッチング選択性のための正確な形態制御も提供します。ユニットの洗練された部品は、エッチング工程において優れた再現性を開発することを可能にしました。さらに、電子顕微鏡（SEM）とエネルギー分散分光法（EDS）を用いて、エッチング結果の高度な計測と解析を行うことができます。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Tectraは、エッチングプロセス最適化のためのさまざまな機能をユーザーに提供する汎用性の高いRIEソリューションです。高度な技術開発をサポートし、大量生産プロセスでの使用に最適です。
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