中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura RTP XE #9188733 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura RTP XEは、アスペクト比の高い微細加工およびエッチング用途向けに設計されたマルチミッション反応イオンエッチング（RIE）炉です。この原子炉は、誘導結合プラズマ（ICP）源、マグネトロンスパッタ電源、プロセスコントロールパネル、プロセスチャンバーで構成されています。ICPソースは、プラズマを生成し、すべてのRFソースの独立した制御に加えて、400kHzまでのRFジェネレータを搭載した共振器で構成されています。デュアル周波数マグネトロンスパッタ源は平面と円筒形のマグネトロンで構成され、それぞれに最大200Wの電力を供給することができます。二重周波数を使用すると、均一な厚さの層の堆積を可能にします。プロセス制御パネルには高速コンピュータが搭載されており、リアルタイムパラメータフィードバック付きのグラフィカルユーザーインターフェイスが含まれています。これにより、複雑なプロセスレシピを簡単に設計および変更できます。また、エッチングレートの設定、エッチングの選択、エッチングの均一性、蒸着率、プロセスレシピなど、エッチングプロセスを監視および制御することができます。プロセスチャンバーは、耐薬品性、高温静電式ウェハサポートを使用しており、ウェハエッジ全体に均一なエッチングを保証します。プロセスチャンバーには、方向制御されたエッチング性能のためのプロセスガスを分配する高度な境界ガス分布プレートも備えています。これにより、高アスペクト比フィーチャーの浅いエッチングが可能になります。プロセス性能の向上に加えて、AMAT Centura RTP XEはプロセスの安定性と信頼性を向上させます。統合された温度制御システムを備えており、チャンバーウォール内に正確な温度設定を提供し、より一貫したエッチング結果を保証します。これらの機能を組み合わせることで、高い歩留まり生産の一貫性を実現し、プロセス時間とコストを削減できます。