中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura RTP XE #9188732 を販売中

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura RTP XE
ID: 9188732
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
Etcher, 8" 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura RTP XEリアクターは、半導体産業の要求に応えるために設計された洗練された装置です。この原子炉は、薄膜のエッチングと堆積のために特別に設計されており、多くの多様な生産工程での堆積のための効果的なツールです。RTPはゲート酸化物の形成、ケイ化物の形成、拡散の障壁および付着の層の沈着、低k誘電体の沈殿およびトポロジー制御のような半導体産業の多くの適用で使用されます。XEは、プロセス制御の改善などのいくつかの高度な機能を組み込んだ原子炉の高度なバージョンです。AMAT Centura RTP XEは、6インチビームラインを備えた水平炉タイプの原子炉です。この原子炉には、各ゾーン内の優れた均一性と高速サイクル時間を提供するセグメント化された熱帯装置があります。高性能高精度蒸着システムを搭載し、高度なプロセス制御機能を備えています。Centuraは、優れた熱制御とプロセス制御により、高い蒸着速度と均一性を提供します。また、低圧電子サイクロトロン共振源を備えているため、低圧でも高水準の性能と均一性を実現し、プロセスコストを大幅に削減できます。RTP XEには、デュアルソース機能、超高精度ガス処理、高度なウエハハンドリングおよび監視などの高度な機能が組み込まれています。それは精密なプロセス制御のための作り付けソフトウェアが付いている高度のマルチゾーンのコントローラーを提供します。高度な粒子制御機能が利用可能で、優れた反復可能な結果を提供します。さらに、このユニットは、精密なプロセス監視と制御のためのオンウェーハ電気プロービングをサポートしています。また、密度と組成の課題がある材料の非酸化加熱のオプションなど、幅広い工具構成にも対応しています。APPLIED MATERIALTS Centura RTP XEは、高エッチングおよび低デポジションアプリケーション用に設計された強力で信頼性の高い原子炉です。業界に求められるスピード、精度、再現性を提供することができます。その高度な機能とプロセス制御機能は、プロセス性能と歩留まりの向上を目指す半導体メーカーに大きな価値をもたらします。
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