中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9244068 を販売中

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AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD
販売された
ID: 9244068
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1996
Sputtering system, 8" 1996 vintage.
AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD (Physical Vapor Deposition)リアクターは、薄膜やコーティングの成膜に使用される工業用ツールです。この装置は、真空チャンバー、電子ビームガン、磁場発生器、ガス分配システム、および加熱および冷却素子で構成されています。AMAT Centura PVDリアクターは、薄膜やコーティングの作成に不可欠な蒸着プロセスの品質を確保するために真空チャンバーで動作します。真空チャンバーの内部では、電子ビームガン(源とも呼ばれる)を使用して、チャンバーの中央の陰極に電子を誘導します。これにより、スパッタリングガスと呼ばれる標的物質の原子や分子がイオンになり、チャンバー全体に漂流して基板や標的物質を打つことができます。スパッタリングされたイオンの正しいコリメーションを確実にするために、磁場が生成され、スパッタリングガスからイオンを基板に誘導するために使用されます。堆積したフィルムとコーティングには、精密な加熱および冷却要素も必要です。この過程では、原子炉内の多くの異なるガスの正確な拡散を確保するために、ガス分配ユニットが使用されます。アルゴン、酸素、窒素などの様々なガスは、さまざまな種類のフィルムやコーティングに使用されています。スパッタリングを必要とするフィルムやコーティングの性質に応じて、追加のガスを使用して特定の結果を得ることもできます。例えば、摩耗の少ないコーティングが必要な場合、チャンバー内の酸素濃度を低減し、純粋で均一なスパッタリングを助けるために、より多くのアルゴンガスが使用されます。全体として、アプライドマテリアルズ/アプライドマテリアルズCentura PVDリアクターは、さまざまなタイプのフィルムおよびコーティング用途に使用できる非常に汎用性の高い機械です。ガス組成、基板温度、基板位置など、さまざまなパラメータを最適化することで、多様な材料を堆積させることで、さまざまな特性を生み出すことができます。このツールは効率的で信頼性が高く、費用対効果が高いため、さまざまな薄膜およびコーティング用途に人気のあるソリューションです。
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