中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #293626643 を販売中

AMAT Centura™ PVDリアクターは、薄膜用途の成膜に使用される高度な物理蒸着（PVD）ツールです。それは先端技術の電子部品を製造するための最も信頼でき、費用効果が大きいアプローチの1つです。APPLIED MATERIALS Centura™ PVDリアクターは、高密度の電子ビーム照射を利用して、超薄膜を環境に優しい方法で基板に堆積させることができます。積層ゲートトランジスタ、埋め込みコンタクトトランジスタなどの複雑なデバイス構造の製造に最適です。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura™ PVDリアクターには、高度に制御可能な蒸着チャンバが装備されており、プロセス中の基板温度を精密に制御できます。また、アモルファスシリコン（a-Si）電子ビーム源を採用し、従来の電子ビーム源よりも高い蒸着速度を実現しています。この設計により、成膜速度をより良く制御し、フィルムの不均一性を最小限に抑えることができます。さらに、高エネルギー電子ビームは基板上のエネルギー密度を最小限に抑え、信頼性の高い成膜を実現するために最適な状態にとどまることができます。Centura™ PVDリアクターには、最適な動作圧力を達成するために校正することができる高度なin-situターボ分子真空ポンプが装備されています。さらに、生成されたフィルムの純度を確保するために、堆積チャンバー内に存在する粒子を測定するための組み込み質量分析システムを備えています。これにより、プロセス中の一貫性と信頼性が向上します。また、Centura™ PVDは経済設計を通じてコスト削減を可能にします。このプロセスは、粉末金属やガラスから金属箔まで幅広い基板に対応できるため、初期材料に関連するコストが削減されます。さらに、AMAT Centura™ PVD炉は、より高い生産歩留まりとより速い堆積時間を可能にし、労働効率の向上とダウンタイムの大幅な削減という形でコスト削減をもたらします。応用材料Centura™ PVDの原子炉は薄膜の沈着のための信頼でき、費用効果が大きい用具です。その高度な機能と柔軟な設計は、高度な電子デバイス製造のアプリケーションの範囲のための理想的な選択肢となります。高密度の電子ビーム照射を採用することで、最小のエネルギーを利用しながら、再現性と信頼性の高いフィルムを堆積することができます。また、蒸着時間の短縮と生産歩留まりの向上によりコスト削減を実現し、量産に最適です。