中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #293625549 を販売中

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVDリアクターは、高精度で高性能な物理蒸着（PVD）装置です。この原子炉は、半導体製品などの基板上の薄膜層を、高い蒸着速度と低い基板温度で処理するように設計されています。このシステムは、金属窒化物、金属酸化物、ポリシリコンなど、さまざまな材料を堆積することができます。このユニットは、10。2インチのdiaサイズと100 Torrベース圧力を備えたホットウォールクォーツチャンバーを備えています。原子炉室には、金属薄膜の堆積用の埋め込みフィラメントも含まれています。内蔵のガスフローマシンは、均一なガス分布と流量の正確な制御と蒸着ガスの正確な用量の配信のために設計されています。この原子炉には、特許取得済みの熱交換器ツールが搭載されており、熱効率の高い3つの気流チャネルを使用して、消費電力を最小限に抑えながら正確なプロセス温度を維持します。APPLIED MATERIALS/AMAT Centura PVD Reactorは、精密なエンドポイント検出用の高解像度デジタルカメラ資産と独立したプロセス制御用の可変スピードコントローラを備えています。このモデルには、原子炉の状態に関するリアルタイム情報を提供するプロセス内診断装置も付属しています。内蔵の無線インターフェースにより、コンピュータなどの外部機器との通信が可能となり、システム稼働中の原子炉データの収集・処理が可能となります。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS/APPLIED MATERIALS Centura PVD Reactorは、安全な動作を確保するためのパスワード保護やユーザー認証など、さまざまなセキュリティ機能を提供します。また、温度センサや圧力センサなど、さまざまな環境センサーを搭載しており、動作条件を監視および制御して安全性を高めています。要約すると、AMAT/Centura PVD Reactorは、低温で正確な薄膜蒸着を可能にする高精度で信頼性の高いPVDマシンです。この原子炉は、埋め込みフィラメント、高解像度デジタルカメラツール、リアルタイム診断アセットなどの多くの機能を備えており、完全なプロセス制御を容易かつ安全に提供します。