中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ #9351620 を販売中

ID: 9351620
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1997
Poly etcher, 8" Wafer shape: SNNF (Notch) Type: Centura 1 P-2 No SMIF interface Chamber A, B, C and D: MxP+ Buff robot type: HP Loadlock: Wide body Metal buff robot blade Water detector: Alarm Wafer sensor: Standard Smoke detector: Alarm EMO AC Rack: Single phase Monitor and EDP monitor: Standalone Controller rack: Single phase Umbilical cables: Controller to mainframe: 25 ft Controller to AC rack: 25 ft RF to chamber coaxial: 50 ft Pump interface cable: 50 ft Chamber A: Chamber type: MxP+ ESC Type: Polymide IHC Type: MKS 640 Manometer type: 1 Torr Lid type: Clamp Slit valve O-ring: Viton Bias RF match: Standard OEM 12B RF Generator No autobias End point: Monochromator SEIKO SEIKI 301 Turbo pump Magnet driver Simply cathode Butterfly throttle valve VAT Gate valve Standard process kit Chamber B, C and D: Chamber type: MxP+ IHC Type: MKS640 Manometer type: 1 Torr Lid type: Clamp Slit valve O-ring: Viton Bias RF match: Standard OEM 12B RF Generator No autobias End point: Monochromator SEIKO SEIKI 301 Turbo pump Magnet driver Simply cathode Throttle valve: Butterfly VAT Gate valve Gases: Chamber A and B: Gas / Name / MFC Size / Make / Model Gas 1 / CL2 / 200 / STEC / SEC-4400MC Gas 2 / HBR / 200 / STEC / SEC-4400MC Gas 3 / N2 / 20 / STEC / SEC-4400MC Gas 4 / CF4 / 200 / STEC / SEC-4400MC Gas 5 / O2 / 10 / STEC / SEC-4400MC Gas 6 / O2 / 100 / STEC / SEC-4400MC Gas delivery: MFC Maker: STEC MKS Transducer display NIPPON SEISEN Mykrolis Filter Regulator: Veriflo MKS Transducer FUJIKIN Valve Gas connection: Multiline drop Chiller: Chiller valve connections: Manifold Generator rack valve connection: Manifold Chiller hose size: 3/8 Quick Valve connection: Wall: Chamber A, B and C Cathode: Chamber A, B and C Power supply: 208 V, 400 A, 60 Hz 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura MxP+は、集積回路の製造におけるトランジスタ、ダイオード、抵抗などの半導体デバイスの製造を容易にするために設計された高性能リアクタです。この原子炉は、高温処理が必要な半導体製造プロセスに最適で、ガスの流れ、圧力、温度を正確に制御します。この原子炉は特許取得済みの高効率ダイレクトガス分配装置(HEDGDS)を備えており、チャンバー全体に均一なガス分配と圧力制御を可能にしています。このシステムは、手動のガスポンプの必要性を排除し、ガスの流れと圧力を正確に制御することができます。HEDGDSはガスラインや外部接続を必要とせず、原子炉の設置と運用を容易にします。炉の内部温度は0。1°Cの精密の25°Cと1000°Cの間で置くことができます。これにより、温度制御の最適化により、正確なプロセス結果と効率的なワークフロー管理が保証されます。さらに、MxP+には、手動真空ポンプの必要性を排除する低圧電気パルスユニットが含まれています。電動パルスマシンは、スループロセス用途でのガス突破を最小限に抑えるために、一定のチャンバー圧力を維持することもできます。この原子炉はまた、ガスフローの汚染を効果的に防ぐ高度な二相ガスフロー保護ツールを誇っています。このアセットは、プロセスとキャリアガスの相互汚染を防止しながら、ガスフローの均一性を最大化するダイナミックフロースプリッタを使用しています。また、アクティブガス制御装置を搭載し、チャンバー圧力を常に監視し、キャリアガスの流れを自動的に調整してプロセスの再現性を確保します。この原子炉には温度センサとプログラマブルロジックコントローラ(PLC)が装備されており、正確な温度制御と自動化されたプロセス監視が可能です。このPLC制御システムはまた、最適なプロセス品質と効率を保証する複雑なイベントのシーケンスを実行することができます。また、スイッチベースの電源や半導体製造プロセスをさらに制御するフレキシブルな誘導加熱など、さまざまな機能を備えています。さらに、この原子炉はETLリストおよびRoHS認証を取得しており、半導体業界の安全基準を満たしているか上回っていることを保証しています。全体として、AMAT Centura MxP+リアクターは、製造業務を合理化しながら、信頼性と一貫した結果を提供するように設計された先進的な半導体製造ソリューションです。
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