中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II eMax #9260047 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II eMaxリアクターは、半導体製造に使用される高温高圧プロセスチャンバーです。完全な機器は、統合された熱交換器と圧力制御システム、高純度ガス供給、超高真空（UHV）環境、およびその場での計測ツールのスイートで構成されています。AMAT Centura II eMax原子炉は、プロセス制御と再現性に優れた設計で、最先端の多層半導体デバイスの信頼性の高い製造を可能にします。APPLIED MATERIALTS Centura II eMaxの中心には、より高い温度、より高い圧力プロセスチャンバーがあります。このチャンバーは、900°Cまでの温度が可能で、1つの大気までの圧力が含まれています。効率的な設計と高度な電力/電気構成により、Centura II eMaxは急速に加熱または冷却することができ、効率的なサイクルタイムを実現します。さらに、プロセスチャンバーはセルフモニタリングされ、プロセス温度と圧力のリアルタイム表示を提供します。AMAT/APPLIED MATERIALTS Centura II eMaxは、高度な熱交換器と圧力制御ユニットを備えています。この統合されたマシンは、独自のリソグラフィープロセスに応じてプロセスチャンバーの温度と圧力をインテリジェントに調整します。このツールは、製造されている半導体層に関係なく、プロセスチャンバーが正確に調整されることを保証します。また、外付け部品の追加が不要なため、統合資産によりコストを削減できます。AMAT Centura II eMaxには、CVD（化学蒸着）などの高純度ガス供給が含まれています。これらは、原料ガスを含み、排気/浄化システムが利用可能です。これにより、ユーザーはさまざまな半導体ニーズに対応する幅広い材料化学製品を作成できます。アプライドマテリアルズCentura II eMaxは、最高のプロセス純度を提供する超高真空（UHV）環境を備えています。このUHV環境は、揮発性粒子、汚染物質、またはガスが半導体ウェーハの性能や品質を損なわないようにします。さらに、UHV環境は、特定の粒子やガスをチャンバーから簡単に取り除くことができるため、汚染の低減にも役立ちます。in-situ計測の面では、Centura II eMaxはライン機能のトップを提供します。これには、ウェーハの材料蒸着速度とプロファイルを監視する機能、および処理中のデバイス性能を監視する機能が含まれます。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II eMaxは、異なる材料の膜厚を測定し、高度なレシピ制御を使用してチャンバー条件を自動的に調整し、作成されるさまざまなレイヤーを視覚化する機能も提供します。AMAT Centura II eMaxモデルは、高度な半導体製造のために設計されたラインリアクターのトップです。そのパワフルで高度な機能により、高性能な半導体ウェーハを正確かつ再現可能に処理できます。これは、高度なプロセスチャンバー、統合された熱交換器/圧力制御装置、高純度ガス供給、超高真空環境、およびin-situ計測ツールのスイートで達成されます。