中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura II DPS #115097 を販売中
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ID: 115097
Poly etch system
Wafer Shape: SNNF (Notch)
Centura II M/F:
Robot: HP+
Wafer on Blade Detect
Umbilicals :
Cntrl M/F: 40ft
Cntrl AC: 75ft
AC Rack M/F: 60ft
Pump M/F Intfc: 75ft
RF PS Chamber: 75ft
Facility Connections: M/F Rear
System AC / Controller:
66” Common Controller
System SW: Legacy E4.5
GEMS / SECS Interface
GEMS SW ver.: E4.5
Load Locks:
Narrow Body w/Tilt-out
25-Wafer Cassettes
Chambers:
Position Chamber Type
E Orienter (OA)
F Orienter (OA)
A DPS+ Poly
B DPS+ Poly
C -
D DPS+ Poly
Chamber A/B/D: DPS+ Poly
Pedestal Type: Ceramic ESC
Single zone independent He control
Endpoint Type: Monochromator
Chamber E: Orienter (OA), narrow hoop
Chamber F: Orienter (OA), narrow hoop
Heat Exchanger / Chiller:
H2000 DI EG
Fluid Type: 50/50 (water/glycol)
Power Requirements: V 208, 3-Phase, 4-Wire, Freq 50 / 60Hz
Gas Box Config:
Vertical height: 31”
(10) Gas line positions per Pallet
Valve Type: Veriflo
Filter Type: Millipore
Transducer Type: MKS
Controller Type: Standard (VME/VMEII)
Facility Line Connection: Single Line Drop, AC side, Bottom Fed.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura II DPSは、先端材料生産用に設計された高温化学蒸着（CVD）炉です。CVD技術を使用して、センチュラIIは、極めて精度と精度の高い薄膜や層を様々な基板に堆積させることができます。このプロセスは非常に制御可能で、目的の用途に合わせて調整することができ、半導体製造、誘電体フィルム層、金属相互接続層などの用途に最適です。Centura IIは、エネルギー効率が高く、迅速な生産速度を実現するように設計されています。CVDチャンバーとプロセスは、化学副産物を削減し、時間と運用コストを削減するように設計されています。これはまた装置で使用される部品および部品の寿命を高めるのを助けます。その温度制御システムは、精密な温度制御を可能にし、プロセスの均一性と再現性を保証します。Centura IIは動的な圧力スケーリングユニットを提供し、室内圧力の調整を可能にします。これにより、反応副産物の均一性、反応性と沈着率を調整する能力が保証されます。この機械にはマルチゾーン制御が装備されており、基板温度制御の幅を広げ、均一性を高め、コーティングおよびフィルム層の欠陥を減らすことができます。Centura IIも非常に汎用性が高く、シリコン、石英、石英/シリコン基板など様々な基板に対応できます。また、気体前駆体や有機金属前駆体など、さまざまな前駆体を扱うことができます。これにより、半導体製造以外のさまざまな用途で使用することができます。Centura IIは操作や設定も簡単で、シンプルなユーザーインターフェイスを備えています。これにより、操作パラメータを迅速に追加または変更することが容易になり、トレーニングオペレータの時間とコストを削減できます。さらに、このツールは、エキシマーメタリックスシードや前駆体配達などの高度な機能も備えており、層の堆積の精度と均一性を高めます。Centura IIは、極めて精度と精度の高い薄膜層を堆積するために設計された高性能で信頼性の高いCVDアセットです。その効率的な設計と汎用性により、半導体製造、誘電体フィルム層、および金属相互接続に最適です。ユーザーフレンドリーなインターフェイスと高度な機能により、あらゆるアプリケーションに最適です。
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