中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I #9184826 を販売中
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ID: 9184826
ウェーハサイズ: 8"
WCVD System, 8"
WxZ
(3) Chambers
Main body
ENI Generator rack
Monitor rack
System controller
(4) Covers
(2) Cables
Mainframe: Centura I Phase I
Chamber A:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Process kit: 200mm
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber B:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Process kit: 200mm JMF
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber D:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber E: Single cool
Chamber F: Oriental
Robot: HP
Load lock: Wide body
Gas box: CI
No heat exchanger
Umbilical length:
CA Chamber A, B, C & D: 50 FT
Gas configuration:
Chamber A, B & D:
WF6 / 200
WF6 / 50
C2F6 / 500
AR / 3000
O2 / 1000
SiH4 / 300
H2 / 500
H2 / 2000
N2 / 300
Control rack:
Serial isolator
System reset
(2) Lk Det 1&2 / Conv/TC
No floppy disk drive
No hard disk drive
Chamber interfaces: A, B, D & E
Mainframe interface
Loadlock interface
Chamber A, B, D: DI/O 1&2
No chamber C: DI/O 1&2
Chamber E: DI/O
Synergy SBC
No controller, 486 V
No APC VME Seriplex PCB
SEI
Chamber A, B, D: AI/O
No chamber C AI/O
Mainframe AI/O
Chamber E/MF AI/O 2
(6) Mainframes DI/O
(3) Steppers
OMS.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Iは、様々な材料の薄膜を単層またはデュアルチャンバーで蒸着するために設計された、小型、大容量、高性能の化学蒸着（CVD）原子炉です。AMAT Centura I原子炉は、閉じた大気圧の原子炉室を備えたシングルチャンバー装置として設計されています。このシステムは、最大1,000°Cの温度を達成することができる強力で可変周波数の誘導加熱ユニットによって駆動されます。金属蒸気反応剤は上部を通して反応室に導入され、基板は前面からロードおよびアンロードされます。APPLIED MATERIALS Centura Iリアクターには、電力制御、温度制御、リアクタント流量制御、リアクタント混合制御など、さまざまな方法でプロセスを制御する手段を提供するRFジェネレータが装備されています。密閉された堆積室は加圧され、金属や半導体を含むさまざまな基板上にサブミクロン薄膜を堆積させることができます。さらに、Centura Iリアクタは可変周波数電源を備えており、プロセスを正確に制御できます。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Iリアクターの封止成膜チャンバーは、不純物の露出を最小限に抑え、フィルム品質を向上させるように設計されています。真空チャンバーは、アルミナライナーを備えた石英から構成され、蒸着プロセスに不活性な雰囲気を提供します。本体は耐久性に優れたステンレス鋼で仕上げられ、基板の汚染を防ぎ、沈着プロセスを監視するための光学窓が取り付けられています。AMAT Centura Iは費用対効果の高い高性能CVDマシンで、幅広い材料にわたって高品質の薄膜を蒸着する際に信頼性の高いプロセス制御を提供します。操作が簡単なツールは、優れた耐久性と信頼性を備えた薄膜を一貫して製造することができ、プロトタイピングと工業生産の両方に人気のある選択肢です。
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