中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I PH2 #9227307 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I PH2 Reactorは、半導体およびメモリデバイスの製造に使用される汎用性の高いツールです。この原子炉は、磁気的に閉じ込められたプラズマを使用して、半導体基板に薄膜を堆積させます。AMAT Centura I PH2には、最大4つのプラズマ源を制御できる200MHz Powerline™プロセス制御管理ソフトウェアが搭載されています。原子炉室の温度範囲は-25°C〜40°Cで、寸法は直径14インチ（35。56 cm）、高さ18インチ（45。72 cm）です。APPLIED MATERIALTS Centura I PH2 Reactorは、半導体基板への材料のエッチングと沈着に磁気閉じ込め装置を使用しています。このシステムは、プラズマを含む磁場を生成し、変更する電磁石の統合バンクを使用しています。これらのフィールドは、安定した環境を作成し、基板全体に均一な温度を提供します。これにより、Centura I PH2はウェーハ処理中に高いレベルの制御を維持できます。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I PH2 Reactorのチャンバーは完全に囲まれ、化学的に不活性です。また、不活性ガスを供給するために使用される加圧配信ユニットを備えています。ウェーハ表面に堆積した膜のプラズマと厚さの均一性を維持することができます。また、堆積プロセスで使用されるガスが周囲の空気によって汚染されないようにします。AMAT Centura I PH2 Reactorには、プラズマをウェーハに向けるために使用される高性能トーチも装備されています。トーチは、4W/cm2までのエネルギーフラックスを提供することができ、200mmまでの任意のサイズの基板を処理することができます。トーチは6m/minの速度でウェーハにプラズマを送ります。応用材料Centura I PH2 Reactorは、半導体およびメモリデバイスの製造に使用される最先端のツールの1つです。成膜工程において優れた制御を提供し、基板全体に均一な結果をもたらすことができます。また、金属、誘電体、ナノ材料など幅広い材料に対応できます。