中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I DPS+ #9093402 を販売中
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I DPS+は、非常に効率的でチームベースのPECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)原子炉で、超高アスペクト比の処理要件を満たすように設計されています。400mmプラットフォームとマルチステーション設計を利用したDPS+は、プラットフォームごとに最大5つのツールを統合でき、複数のフィルム領域のハイブリッド統合に最適です。DPS+の中核には、世界クラスのAMAT Centura I HD PECVD処理技術があります。優れたフィルム均一性、再現性、および高い蒸着率を提供するように設計されています。機器の柔軟な設計により、最新の合金加工技術を組み込むオプションを備えた最大5つのツールを1つのプラットフォームに統合できます。このマルチステーション機能は、MEMS(マイクロエレクトロメカニカルシステム)やFEOL(フロントエンドオブライン)開発など、異なるウェーハ上の異なる堆積層を必要とするアプリケーションに最適です。このシステムにはユニークなリアクタントユニットも含まれており、リアクタント混合物を簡単に操作できます。これにより、レート、適合性、スループットなどの堆積パラメータを調整できます。さらに、スプリットウエハカセットを使用して連続ウエハを素早く再読み込みすることで、ウエハハンドリングを簡素化し、生産性を向上させるように設計されています。このツールはまた、リアルタイムのプロセス監視機能を備えており、プロセス条件に関する詳細な情報を提供する包括的なフィードバックシステムを備えているため、必要に応じてパラメータを調整できます。さらに、高度でユーザーフレンドリーなITインフラストラクチャを備えているため、データとファイルを資産に簡単に統合できます。これにより、モデルの生産性が向上し、一貫した製品品質が保証されます。全体として、AMAT Centura I DPS+は高効率で汎用性の高いPECVD装置であり、様々な高度な蒸着アプリケーションのニーズを満たすように設計されています。DPS+は、広範な機能、複数のフィルムスタックをターゲットにする能力、および高スループットを備え、MEMSやFEOL処理などのアプリケーションに最適なリアクタです。
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