中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HTF #9260258 を販売中

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ID: 9260258
ヴィンテージ: 2006
Epitaxial cluster system (3) Chambers atmospheric: Standard EPI Logitex wafer handling control Cooling circuit with digital flow-meters Door Interlocks PC Controller Temperature control: Dual pyrometer Process gases: TCS, PH3, Porr External cooling: Water cooled CE Marked Power requirements: 480 V, 240.0 Amp, 50 Hz, 3 Phase 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HTF (High Temperature Furnace)は、半導体チップおよび集積回路の製造および製造プロセスに使用される真空外熱処理炉の一種です。500〜1200°Cの温度で動作するように設計されたこの炉は、酸化、窒化、急速な熱処理(RTP)アニーリング、熱拡散、およびその他の高温処理などの高度な熱処理アプリケーションが可能です。AMAT Centura HTFは、スロットテフロンまたは高温合金材料で構成された4ゾーン、水平に取り付けられた炉室で構成されています。このチャンバーは、水冷式のRF駆動非対称誘導コイルによって加熱され、チップの表面近くで個別または組み合わせて、不活性または反応性プロセスガス(窒素や酸素など)を導入するためのガスノズルを装備することができます。炉チャンバの温度は、高度なプロセスコントローラを使用して正確に監視および調整することができます。これは、特殊な基板サポート技術のサポートも提供します。コントローラはCenturaハードウェアに直接接続し、プロセスエンジニアは温度、居住時間、ガス流量などのさまざまなパラメータを調整して制御し、望ましい結果を得ることができます。応用材料CENTURA HTFは安全性を念頭に置いて設計されており、効果的な安全性と環境保護を提供します。チャンバーには爆発制御システムが装備されており、OSHAおよびNFPA規格に準拠していますが、冷却システムは突然のプロセス転送に対して適切に保護されています。緊急遮断スイッチや地上障害回路遮断器などの追加の安全対策も利用できます。AMAT CENTURA HTFは熱処理の必要性のための費用効果が大きい解決であり、望ましい結果を達成している間優秀な質、再現性および再現性を提供します。その結果、半導体チップや集積回路製造に欠かせない部品となっています。
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