中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9137479 を販売中

この商品は既に販売済みのようです。下記の同じようなプロダクトを点検するか、または私達に連絡すれば私達のベテランのチームはあなたのためのそれを見つけます。

フォト（写真） 使用される AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi 販売のために
Loading
販売された
リアクター
製造業者
AMAT / APPLIED MATERIALS
モデル
Centura Epi
ID: 9137479
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1995
CVD Reactors, 8" Chamber type: Position A : HTF Nitride Position B : HTF Nitride Position F : (CA) Single slot cooldown Electrical requirements Line voltage : 480V With transformer Line frequency : 60 HZ Line amperage : 600A System safety:  EMO Switch type : Momentary EMO EMO Guard ring HTF NITRIDE EPI RP Pressure chamber Thickness control options : BMV Third manometer : 200 TORR Leak check port RGA Port and valve HTF NITRIDE EPI : RP Pressure Chamber Selected Option Thickness Control Options BMV  Third Manometer 200 TORR Gas Line Isolation Leak check port RGA Port and Valve Gas Delivery Options:   Epi Gas Delivery Options: Gas Panel Type Surface Mount Gas Panel Gas Panel Exhaust CHAMBER B SIDE MFC : AREA,UNIT,STEC,ETC Filter Milipore Pump Purge CH A Gas Options   CH A ATM Pressure      CH A H2      CH A N2      CH A SIH4      CH A SIH4      CH A H2      CH A NF3 CH B Gas Options:  CH B ATM Pressure      CH A H2      CH A N2      CH A SIH4      CH A SIH4      CH A H2      CH A NF3 Mainframe  Loadlock      Loadlock Type : Wide body      Cassette Platform Type : Universal  Common Chamber Options :      Variable Speed Blower      SWmonitor Quartz Pyrometer Kit 2      Lamps Type USHIO BNA6      Susceptors STANDARD NCP      Brands XYCARB      Lift Pin Type HOLLOW SILICON CARBIDE      Susceptor Support Shaft NCP SUSCEPTOR SUPPORT SHAFT      Tips SILICON CARBIDE REMOVABLE TIPS      Exhaust Inserts Quartz  Transfer Chamber Wafer Sensing : OTF Transfer chamber Lid Hoist : Robot :HP ENP Transfer Chamber Purge 15 SLM  Diagnostics and Control :  SecsTrac Remotes :  System controller :  Controller Plexiglass Cover  Flash Memory Drive : SCSI Vacuum pumps :  Loadlock chamber pump : Edwards QDP40  Process chamber pump : Edwards QDP80  System Monitors:  Monitor Type : CRT (1) Monitor Wall (1) Table mount Cable Lengths (Effective) :      Controller to Mainframe : 23 ft Controller to Pump : 48 ft Controller To TTW Monitor : 50 ft Controller to table Mount Monitor : 24 ft 1995 vintage.
続きを読む 閉じる
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epiはエピタキシャル層の堆積のための最先端のマルチゾーン装置です。この原子炉は、高度に最適化されたインジェクタ、加熱ゾーン、および低温性能係数のおかげで、非常に効率的な設計を使用しています。AMAT Centura Epiは、拡散制御プロセスを使用して厚い層の均一性を確保するのに役立つ高度なマルチゾーンインジェクタを備えています。このインジェクタは、高いスループットと低温性能を備えているため、作業効率が高くなります。原子炉には高度な熱処理を備えた加熱ゾーンがあり、基板の均一で均一な加熱を提供するのに役立ちます。これにより、熱層の均一性が可能になり、堆積プロセス中のエピタキシャル層の最高収率を維持するのに役立ちます。APPLIED MATERIALTS Centura Epiは、真空ポンプとガスブロワーシステムを組み込むことにより、信頼性の高い設計となっています。これらのシステムは、真空圧力を制御するだけでなく、ガスの安定した流れを提供するのに役立ちます。これにより、堆積プロセスの安定した一貫した環境が確保されます。このユニットには、流量、圧力、温度制御などの複数の監視および制御システムも含まれています。これらのシステムは、プロセスパラメータの一貫性を保ち、エピタキシャル層の高品質で信頼性の高い堆積を確保するのに役立ちます。Centura Epiには、自動データ収集用のデジタルインターフェイスが含まれており、堆積プロセスからデータをキャプチャおよび分析するのに役立ちます。このデータを使用して機械のパラメータを調整し、堆積プロセスの結果を最適化することができます。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epiは、エピタキシャル層の均一な堆積を可能にする高性能ツールです。この原子炉は、マルチゾーンインジェクタ、加熱ゾーン、および低温性能係数のおかげで、非常に効率的な設計を特徴としています。さらに、各種のモニタリングシステムと制御システムも備えており、堆積プロセスの均一性、信頼性、品質を確保するのに役立ちます。
続きを読む 閉じる
まだレビューはありません