中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9053770 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi Equipmentは、薄膜およびエピタキシャル層の形成に使用される原子炉の一種です。このシステムは、特許取得済みの自動ローディング機構を備えた、コンパクトで統合された化学蒸着（CVD）チャンバーです。このユニットは、光学、太陽電池、有機半導体材料などの様々な材料の高速で信頼性の高い処理を、精度と再現性で提供するように設計されています。AMAT Centura Epi Machineは、CVD条件下で幅広い材料を処理するための高度で多機能なツールであるように設計されています。この資産は堅牢で信頼性の高い機械設計に基づいており、個々のコンポーネントを自動化された生産プロセスに容易に統合できます。このモデルのモジュラー設計は、変更された本番環境での処理ニーズを満たすための柔軟性と拡張性を提供します。応用材料Centura Epi装置は腐食、温度の衝撃および摩耗に対して抵抗力があるステンレス鋼および陶磁器の部品を使用して組み立てられます。このシステムは、幅広い材料と材料の組み合わせのための高温および高圧処理能力のために設計されています。また、低コストのフレキシブルチャンバー設計により、さまざまなレイヤーや材料の堆積を可能にします。Centura Epi Machineは、モジュラー式の2ゾーン容器、ガス供給モジュール、パワーコンディショニングユニット、真空ポンプ、統合コントローラなど、いくつかの主要コンポーネントを備えています。2ゾーン容器は、材料表面に温度と圧力の均一性を伝達する高度な密閉チャンバーです。ガス供給モジュールは、加熱または冷却されたプロセスガスを供給し、迅速なプロセス変更と急速なガススイッチングを可能にします。統合されたコントローラは直感的でありながら強力であり、複数のプロセスステップを自動化するようにプログラムすることができます。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi Toolは、リアルタイム圧力および温度制御、マルチパラメータプロセス監視および制御などの高度なプロセス制御機能も提供します。また、窒化物や低圧化学蒸着（LPCVD）など、最適なフィルム形成と制御のためのさまざまなプロセスオプションも提供しています。AMAT Centura Epi Modelは、薄膜やエピタキシャル層を形成するための高度で汎用性の高いツールです。この装置は、幅広い材料の高速で信頼性の高い処理と、変化する生産要件に適応するための低コストの柔軟な設計を提供します。また、再現性と一貫したパフォーマンスを確保するために、高度なプロセス制御と監視機能を備えています。