中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9177323 を販売中

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ID: 9177323
ウェーハサイズ: 8"
Chamber, 8" Wafer shape: SNNF (Semi Notch No Flat) System configuration: Chamber B: Heater: AL Clean method: RF Frequency: Dual HF + LF Manometer: Single 100 torr Gas delivery: MFC Type: STEC 4400MC Valves: FUJIKIN 5 Ra Max Filters: Millipore Transducers: MKS with display Regulators: Veriflo Single line drop (SLD): No Liquid delivery type: EPLIS Injection valve: Yes LFM TEOS: Yes Chamber B Model Size NF3 STEC 4400 300 sccm C2F6 STEC 4400 2 SLM O2 SETC 4400 3 SLM N2 STEC 4400 1 SLM HE STEC 4400 3 SLM LFM LF-410A 1.5 g/m (2) Generators: HF Generator LF Generator Umbilicals: Signal cable length (S/C ~ MF): 25Ft RF Gen coax cable length: 50Ft Pump cable: 50Ft.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZは薄膜成膜用に設計された汎用性の高い原子炉です。物理蒸着を利用して高品質の薄膜を堆積させ、半導体・光電子製造などの用途に最適です。この原子炉は、さまざまな形状とサイズの基板に対応するために、大きなプロセスチャンバーを備えています。また、マルチゾーン加熱装置を使用しており、蒸着プロセス中の熱エネルギーを正確に制御できます。リアクターは均一性を向上させるために設計されており、ウェーハ全体に均一性を示す薄膜を適用することができます。また、高性能な設計により、粒子の取り込みを最小限に抑えることができ、最適化されたガス流量システムにより、粒子がプロセスから出現する際に空気の流れや他のガスによって流されることを保証します。センチュラはまた、感受性を最小限に抑え、薄膜蒸着時の精度を確保するのに役立つユニークな機能を多数備えています。高精度のガスバルブは、ガスの流れを正確に調節するように設計されていますが、高精度のプロセスモニタリングシステムは、プロセス応答と性能に関するデータを提供します。さらに、このユニットには高度な診断機能と高度なプロセスコントローラ機能が搭載されており、オペレータはターゲットに留まるために必要に応じてプロセスを変更することができます。AMAT Centura DxZの設計により、幅広い化学反応を監視することが可能になり、堆積プロセスを密接に指示し、最適な結果を得るために最適化することができます。また、不活性ガスロッカーや過剰処理を防止するカウントダウンタイマーなど、多くの安全機能を備えています。APPLIED MATERIALTS Centura DxZは、信頼性と再現性の高い薄膜成膜を提供する先進の薄膜成膜機です。それは多目的な設計信頼性、安全および反復性に強い焦点を合わせる正確で、均一なコーティングを可能にします。高度な機能とプロセスを組み合わせることにより、センチュラは、薄膜が精度と高い収率で適用されることを保証します。
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