中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #120819 を販売中
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販売された
ID: 120819
CVD system, 8"
Specifications:
208 Vac, 4 Wires, 3 phase, 250 A, 50/60 Hz
System rating: 90 kVA
Platform type: Centura I Body
Application: Etch
Wafer shape: SNNF
Technology: CVD
RPS: no (available for additional cost)
Chamber type/ location:
Position A: DXZ CHAMBER
Position B: DXZ CHAMBER
Position C: HDP CHAMBER
Position D: Blank
Position E: Blank
Position F: (OA) ORIENTER
System safety equipment:
CE Mark: No
EMO Switch type: Turn to release EMO ETI compliant
EMO Guard ring included
Smoke detector at controller: Yes
Smoke detector at MF No skin: No
Smoke detector at gen rack: Yes
Smoke detector at AC Rack: Yes
Water and smoke detector: Alarm
System labels: English
CH A: DXZ Chamber:
Process Kit: Customer option
Baratron guage: 100 Torr/ 10 Torr
Match: FIXED MATCH
Heater
Lift assembly: 0010-37792
Throttle valve: 0090-36296
Generator: AE RFG 2000-2V
CH B: DXZ Chamber:
Process Kit: Customer option
Baratron guage: 100 Torr/ 10 Torr
Match: FIXED MATCH
Heater
Lift Assembly: 0010-37792
Throttle valve: 0090-36296
Generator: AE RFG 2000-2V
CH A: DXZ Chamber:
Process Kit: Customer option
Baratron guage: 100 Torr/ 10 Torr
Match: FIXED MATCH
Heater
Lift assembly: 0010-37792
Throttle valve: 0090-36296
Generator: AE RFG 2000-2V
CH F: (OA) orienter:
Orienter: Standard
Gas delivery options:
Component selection: Standard
Valve: VERIFLO
Transducer
Regulator
Filter
Transducer displays
MFC Type: UNIT UFC-1660
Gas panel pallet A
Line 1 Gas: C2F6
MFC Size: 300 SCCM
Line 2 Gas: NH3
MFC Size: 1 SLM
Line 3 Gas: NH3
MFC Size: 100 SCCM
Line 4 Gas: N2
MFC Size: 325 SCCM
Line 5 Gas: H2
MFC Size: 5 SLM
Line 6 Gas: N2
MFC Size: 5 SLM
Line 7 Gas: N2O
MFC Size: 2 SLM
Line 8 Gas: NF3
MFC Size: 1SLM
Gas Panel Pallet B
Line 1 Gas: C2F6
MFC Size: 300 SCCM
Line 2 Gas: NH3
MFC Size: 1 SLM
Line 3 Gas: NH3
MFC Size: 100 SCCM
Line 4 Gas: N2
MFC Size: 325 SCCM
Line 5 Gas: H2
MFC Size: 5 SLM
Line 6 Gas: N2
MFC Size: 5 SLM
Line 7 Gas: N2O
MFC Size: 2 SLM
Line 8 Gas: NF3
MFC Size: 1SLM
Gas Panel Pallet C
Line 1 Gas: C2F6
MFC Size: 300 SCCM
Line 2 Gas: NH3
MFC Size: 1 SLM
Line 3 Gas: NH3
MFC Size: 100 SCCM
Line 4 Gas: N2
MFC Size: 325 SCCM
Line 5 Gas: H2
MFC Size: 5 SLM
Line 6 Gas: N2
MFC Size: 5 SLM
Line 7 Gas: N2O
MFC Size: 2 SLM
Line 8 Gas: NF3
MFC Size: 1SLM
General mainframe options:
Facilities type: Regulated
Facilities orientation: FACILITIES BOTTOM CONNECTION
Optical character recognition: NO
Weight dispersion plates: NONE
Service lift: NONE
Loadlock/Cassette options
Loadlock type: NARROWBODY
Loadlock platform
Narrow body loadlock extension: NOT APPLICABLE
Loadlock options: NONE
Cassette Type Supported: STANDARD
Loadlock Cover Finish: ANTI-STATIC PAINTED
Loadlock Slit Valve Oring Type: KALREZ
Wafer Mapping: ENHANCED(O.T.F)
Wafer Out of Cassette Sensor: NOT AVAILABLE
Cassette Present Sensor: NOT AVAILABLE
Integrated Cassette Sensor: YES
Transfer Chamber Options:
Transfer Ch Manual Lid Hoist: YES
Robot Type: CENTURA HP ROBOT
Robot Blade Option: AL Blade
On the Fly Centerfind: YES
Wafer On Blade Detector: BASIC
Loadlock Vent: BOTTOM VENT
W Throttle Valve and Baratron: NO
HP Thruput Enhancement: NO
Clear Blank Off Plates: NO
Remotes:
Controller Type: 66 INCH COMMON CONTROLLER
Cntrlr Electrical Interface: BOTTOM FEED
Controller Exhaust: TOP EXHAUST
Controller Cover Option: YES
Adaptor for SECS Port 25 Pos: NO
Exhaust Duct: NO
Controller IO Interface: NONE
Three Way Switch Box: NO
AC Rack: Selected Option
GFI: 100mA
AC Rack Types: 66 INCH Pri/Sec AC GEN RACK
Exhaust Collar: NONE
Primary MCE AC Rack: NOT APPLICABLE
Secondary MCE AC Rack: NOT APPLICABLE
Controller Facility Interface: NO UPS
MCE Secondary Generator Rack: NOT APPLICABLE
Generator rack options :
RF On indicator: YES
RF Gen rack plexiglas cover: NO
Second RF On indicator: NO
Gen rack cooling water: Gen rack water manifold
Gen rack manifold facilities: NOT APPLICABLE
RF Generator flow meter: NOT AVAILABLE
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZは、大規模なアプリケーション向けに設計された超大型エリアPECVD(プラズマ強化化学蒸着)ツールです。AMAT Centura DxZは10M x 10Mのチャンバーサイズで、8.2M x 3.2Mの基板を処理することができます。それは非常に均一なプラズマおよび均一な低圧CVDプロセスを作成することができるカスタム真空マイクロプロセッサ制御装置によって動力を与えられます。高密度パワーシステムとコンフォーマルフェーシングプレートの利点により、高度なアプリケーションに必要な究極の均一性と柔軟性を提供します。加えて、アプライドマテリアルズCentura DxZには、プロセスパラメータを調整する独自の方法を提供するデュアルビーム光学ユニットが含まれています。この機械は沈殿室の中から調節を作るより直感的な方法を提供します。基板の互換性に関しては、Centura DxZは幅広い基板との完全な互換性を提供します。また、シリコン、シリカ、石英など、さまざまな表面材料を処理することができます。AMAT/APPLIED MATERIALTS Centura DxZは、最小幅0。1ミリメートル、最大幅8。2メートルの異なるサイズの基板を処理できます。さらに、堆積プロセスの核生成段階は、100°Cから600°Cまでの幅広い温度範囲で発生します(用途に応じて)。これにより、蒸着プロセスが制御可能になり、潜在的な基板損傷の影響を受けにくくなります。材料の互換性に関しては、AMAT Centura DxZは幅広い材料との互換性を提供します。窒化物、ホウ化物、窒化物、アミドなどの材料、ならびに多数の有機金属前駆体を処理することができる。また、各種エッチングガスや有機金属前駆体にも対応可能です。これにより、堆積とエッチングのプロセスを特定のニーズに合わせて調整することができます。最後に、APPLIED MATERIALTS Centura DxZリアクターは、高度な安全性と環境機能も備えています。プロセスの安全性を維持するための高度な安全クーラントツールと、クリーンな作業環境を確保するためのオプションの高効率粒子濾過アセットが含まれています。カスタムプロセス制御モデルでは、堆積パラメータやその他のプロセス変数の高度な監視も可能です。これらの機能を備えたCentura DxZは、大規模な産業アプリケーションに最適です。
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