中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9350294 を販売中
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPSは、信頼性の高い高性能で長期的な化学エッチングソリューションを提供するために設計された最先端の原子炉装置です。この3面化学蒸着（CVD）原子炉は、超薄膜、厚膜、均一膜、制御膜厚を生成するように設計されています。AMAT Centura DPSシステムは、幅広いプラズマエッチング機能を提供し、ケミカルドライエッチングとプラズマエッチングの両方をサポートします。このユニットには、精密な監視と再現可能なプロセスのための自動化されたプロセス制御マシンも装備されています。APPLIED MATERIALTS Centura DPSには、高性能RF電源とプラズマ励起電極が搭載されており、エッチング工程を正確に制御し、信頼性と均一性を確保します。この原子炉には、コンピュータ制御のプロセスパラメータによるプロセス最適化を可能にする適応プロセス制御ツールも装備されています。このアセットには直感的なインターフェイスがあり、ユーザーはプロセスパラメータをすばやく設定し、必要に応じて調整することができます。プロセス制御モデルにはアラーム通知機能もあり、プロセスのずれを監視するため、必要に応じて是正措置を講じることができます。Centura DPSは、高度な誘電性エッチング、要求の厳しいバリアレイヤーエッチング、および高レートの銅エッチングなど、さまざまな用途に使用できるため、汎用性の高い機器です。また、高いスループットと複数のウェーハを同時に使用するために設計されており、効率と生産性の向上を可能にします。原子炉の設計は、プロセス条件をオンザフライで調整し、簡単にクリーンアップとメンテナンスを行うことができるため、低コストの所有に最適化されています。Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition （PECVD）プロセスと自動化されたプロセス制御により、エッチプロファイルの優れた均一性と再現性を備えたコンフォーマルフィルムの製造が可能になります。全体として、AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPSは信頼性の高い汎用性の高いCVDリアクタシステムで、幅広いプラズマエッチング機能、高スループット、および自動プロセス制御を提供します。このリアクターユニットは、さまざまなエッチング用途に適用できる精密で再現性のある均一なエッチング結果を得ることができます。
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