中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9301844 を販売中
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ID: 9301844
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2007
Etcher, 12"
PC: IBM 0090-04959 and 0090-04958 Server type
Mainframe: Centura AP
Chamber A: DPS Cerena (High temperature heater)
EDWARDS Turbo pump
Controller: SCV-1500
Gate valve: VAT
RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513
KASHIYAMA MU-603X Dry pump
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
1 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 20
2 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
3 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 400
4 / UNIT INSTRUMENTS / He / 400
5 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
6 / UNIT INSTRUMENTS / Ar / 400
7 / UNIT INSTRUMENTS / BCl3 / 400
8 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 500
9 / UNIT INSTRUMENTS / NF3 / 200
10 / UNIT INSTRUMENTS / Cl2 / 200
11 / UNIT INSTRUMENTS / H2 / 400
12 / UNIT INSTRUMENTS / SiCl4 / 70
13 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 70
14 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
15 / UNIT INSTRUMENTS / CO / 100
16 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 100
17 / UNIT INSTRUMENTS / SF6 / 100
19 / UNIT INSTRUMENTS / CH3F / 100
20 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 300
22 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
23 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
24 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 400
FPC / MKS / N2 / 1000
Chamber C: DPS G5
EDWARDS Turbo pump
Controller: SCV-1500
Gate valve: VAT
RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513
Dry pump missing
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
1 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 20
2 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
3 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 300
4 / UNIT INSTRUMENTS / He / 400
5 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
6 / UNIT INSTRUMENTS / Ar / 400
7 / UNIT INSTRUMENTS / BCl3 / 400
8 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 500
9 / UNIT INSTRUMENTS / NF3 / 300
10 / UNIT INSTRUMENTS / Cl2 / 200
11 / UNIT INSTRUMENTS / H2 / 200
12 / UNIT INSTRUMENTS / SiCl4 / 70
13 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 30
14 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
15 / UNIT INSTRUMENTS / CO / 100
16 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 100
17 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 200
18 / UNIT INSTRUMENTS / CH3F / 100
19 / UNIT INSTRUMENTS / SF6 / 100
20 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 300
21 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 30
22 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
23 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
24 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
FPC / MKS / N2 / 1000
Chamber D: ASP (RF type)
RF Generator: ADVANCED ENERGY
KASHIYAMA MU-603X Dry pump
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
37 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 1000
38 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 1000
40 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 10000
Missing parts:
Hard Disk Drive (HDD)
Dry pump
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS （Dynamic Process Equipment）原子炉は、半導体、メモリチップ、マイクロプロセッサなどのマイクロエレクトロニクス部品の製造に使用されるプロセス・システムです。この原子炉は一連の工業用グレード材料を使用して、マイクロエレクトロニクスの特徴層のエッチング、堆積、洗浄が確実に行われる自己完結環境を作り出します。DPSチャンバは幅広い機能を備えており、特定のプロジェクトに簡単に構成できるように設計されており、優れた再現性、均一性、フォールトトレランスを提供します。AMAT Centura DPSユニットでは、250°Cまでのチャンバー温度を作成するために、高効率で低発電ヒーターが使用されています。温度は、レジストやフォトレジスト洗浄の除去に重要です。ヒーターは部屋の均一な温度を保障するために強制対流ファンおよび均等に熱を広げる引き込み式のシャワーリングノズルを含んでいます。さらに、ヒーターには熱暴走を防ぐ水冷機能も含まれています。チャンバーの温度を制御し、汚染を防ぐために独自のプロセスチャンバーエーロゾル搬送機が使用されています。エアロゾルの配達用具は固体および蒸気に入って来る空気を分け、次に部屋の温度そして湿気を制御することによって働きます。また、デュアルフィルタリング素子を使用して、チャンバーに入る唯一の汚染物質がプロセスに必要なものであることを確認します。堅牢なコントローラアセットは、プロセスパラメータとチャンバー条件の両方を調整するためのシングルダイヤルノブを備え、使いやすい設計です。チャンバー内の圧力、温度、湿度などのパラメータ、およびその他のプロセス固有のパラメータを制御することができます。コントローラモデルの柔軟性により、製造プロセス中にさまざまなアプリケーション領域やプロセス監視用のレシピを簡単にカスタマイズできます。応用材料Centura DPSは、マイクロエレクトロニクス製造プロセスの重要な部分です。エッチングと蒸着プロセスを精密に実施するとともに、ストリップや洗浄に抵抗する環境を安全かつ効率的に完成させることができます。幅広い機能、構成可能な性質、および統合された制御機器により、Centura DPSはマイクロエレクトロニクスの製造に最適です。
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