中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9233287 を販売中

ID: 9233287
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
Metal etcher, 8" Mainframe: Centura Phase2 Chamber A & B: DTCU: EDTCU Gate & throttle valve: Pentium & throttle valve, VAT EDWARDS STP-H1303C Turbo pump Pumping tube: Heated ENI QMW-25 Generator (Source) ENI OEM-12B Generator (Bias) ESC: Ceramic EPD: Monochromator Chamber C&D (ASP+): ASTEX AX-2115 Microwave generator Tuner: Auto tuner Chamber E: Fast cooldown Chamber F: Orieter Xfer: VHP Robot L/L: Narrow tilt-out Gas panel: Chamber A & B: Gas / Size / Model N2 / 20sccm / 8160 O2 / 500sccm / 8160 Ar / 200sccm / 8160 CHF3 / 20sccm / 8160 SF6 / 200sccm / 8160 BCL3 / 100sccm / 8160 CL2 / 200sccm / 8161 Chamber C & D Gas / Size / Model N2 / 500sccm / 8160 O2 / 5000sccm / 8160 N2 / 1000sccm / 8160 VDS Missing parts: Process chamber chiller & hose EPD Monitor rack 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS+は、次世代OLEDディスプレイやその他のマイクロエレクトロニクス用途の要求に応えるように設計された先進的なプラズマ強化化学蒸着(PECVD)装置です。AMAT Centura DPS+は、基本セルの成膜用に設計されたデルタチャンバー、化合物半導体成膜用に設計されたシグマチャンバー、ストライプターゲットを用いた整流膜の成膜用に設計されたストライプチャンバーを備えた、あらゆる成膜要件に適したチャンバを選択できます。これにより、超薄膜から厚さ2mm以上のフィルムまで、幅広い成膜能力を実現します。この装置は、超精密制御システムを使用した温度制御、ミクロンレベルの均一性と再現性、リアルタイム自動ロードロック、可変周波数RFスパッタ電源、カスタマイズ可能なエンドポイント検出など、処理速度と歩留まりを向上させる多くの機能を備えています。さらに、このシステムは半自動で動作し、さまざまな形状とサイズのウェーハを処理するためにそれに応じてプログラムすることができます。低温処理が特徴で、プラズマ活性ガス放電により、蒸着速度、均一性、品質が向上します。ユニットに使用される高純度プロセスガスは、優れたフィルム均一性とプロセス安定性を提供します。APPLIED MATERIALTS CENTURA DPS+はまた、完全に調整可能なパワーと圧力レベルを備えた優れたプラズマ制御を提供し、ユーザーは最適な材料性能を達成するためにプロセスパラメータを微調整することができます。特殊なマルチチャンバークラスタリングアーキテクチャにより、高スループットクラスタ処理が可能です。さらに、高精度の統合アライメント治具と自動ウェーハローディングプラットフォームは、手作業の労力を最小限に抑えます。全体として、AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+は、次世代のOLEDディスプレイ成膜およびその他のマイクロエレクトロニクスのニーズに対応する高度な処理機能を提供します。その機能の範囲で、マシンは、蒸着およびエッチング要件のための効率的で信頼性の高いプラットフォームを提供しています。
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