中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9193142 を販売中
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ID: 9193142
Poly R1 chamber
DTCU Type: R1 DTCU
Wafer type: SNNF
ESC Type: Polymide
Standard:
Throttle valve
Gate valve
Cathode: Single type
Turbo pump: LEYBOLD Mag 2000
Dual manometer: 627A / 625 A
Missing Parts:
Match box
H/V Module
Turbo controller.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPSは、集積回路(IC)やその他多くの半導体デバイスの製造に使用されるリアクティブイオンエッチングおよび蒸着装置です。AMAT Centura DPSは、優れた性能、作業者の安全性、および大量のIC生産のための使いやすさを提供するように設計されています。応用材料Centura DPSは、金属から有機物まで、半導体製造に使用される多くの材料の成膜またはエッチング用に設計されています。プロセスチャンバーに供給される複数のプロセスガスの組み合わせを使用して、これらの材料の高品質のエッチングまたは成膜を実現します。プロセスガスには、酸素、窒素、アルゴン、ヘリウム、塩化水素が含まれます。プロセスチャンバーには、駆動された上部電極、可動基板テーブル、およびチャンバーを避難させるために使用されるターボポンプが含まれています。チャンバー内にあるプラズマ源を使用して、材料をエッチングまたは堆積させるために必要なイオンを生成します。Centura DPSは、サイズに関係なく、ウェーハの表面全体に均一なエッチングと成膜結果を提供することができます。また、所望のエッチングまたは沈着結果を達成するために、幅広い圧力、温度、パワーレベル、タイミングサイクルで動作することができます。さらに、ガスの拡散や汚染を最小限に抑え、作業者の環境を清潔に保つために設計されています。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPSはまた、危険物質への暴露から労働者を保護するために多くの保護装置を採用しています。そのマルチレベルのインターロックシステムは、自動化されたプロセスレシピがパラメータ内にとどまることを保証し、製品の汚染や有害物質への労働者の暴露のリスクを最小限に抑えるのに役立ちます。また、センサーやカメラシステムを使用してプロセスデータを記録し、作業者や機器の安全を確保する室内監視機も備えています。AMAT Centura DPSは、IC製造のための非常に人気と信頼性の高いツールです。高い安全性を兼ね備えた優れたエッチングおよび成膜結果を提供することができるため、高品質の集積回路の製造に最適です。
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