中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 #9188285 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1は、集積回路およびデバイス上の超薄型、均質な膜の堆積用に設計された化学蒸着（CVD）反応器です。この装置は、精度と高品質のフィルムが必要な蒸着アプリケーションに特に適しています。複数の独立した高真空チャンバとデュアル周波数RF電源を備えており、広い領域でのプロセス制御と均一性を最適化します。システムのメインチャンバーには2つのRFソースがあり、1つは高周波源として、もう1つは低周波源として機能します。低周波ソースは、回路保護のための厚い層の堆積を可能にしたり、高出力レーザー書き込みによる損傷を軽減するための高エネルギーパルスを提供します。両方のソースを同時に使用して、反応領域全体にわたって均一な堆積を達成することができます。チャンバーは、直径12インチまでのウェーハをサポートすることができるクォーツサセプターに接続されています。このユニットには、自動化された温度と圧力制御を備えた高度なガス制御機が装備されています。これにより、ユーザーは蒸着プロセスを正確に制御し、材料の最適な蒸発と蒸着を確実にすることができます。また、工具にはコンピューター制御の最適化チャンバーが装備されており、作業領域全体の堆積の均一性を確保しています。チャンバーは、さまざまな用途に最適なサンプルホルダーサイズの範囲を取り付けることができます。AMAT Centura DPS R1は、シリコン、タングステン、チタン、シリサイド、アルミニウムなどの幅広いCVDフィルム用に設計されています。また、窒化物と酸化物の層を堆積させるためにも使用されており、異なるガス注入システムを使用する能力は最適なフィルム特性を保証します。この資産は、高速生産ラインやラボ研究アプリケーションに適しています。このモデルは、幅広い構成のために素早くプログラムすることができます。また、さまざまな安全機能を備え、オペレータの安全性を確保するよう設計されており、生産環境に最適です。また、プロセスモニタリングとチューニングメカニズムも備えており、最大限の効率と信頼性を確保しています。