中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9223550 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS IIは、幅広い半導体製造プロセスに使用できる高度なプロセス化学拡散炉です。この多機能リアクターは、高品質の結果を達成するための非常に効率的でプログラム可能な方法を提供します。100mm、 110mm、 200mm、 300mmのウエハサイズ基板用に設計されています。AMAT Centura DPS IIは、化学供給用の二重線形希釈ゾーンを備えた先進的なガス供給装置を備えています。このシステムは、精密なプロセス制御を可能にするために、複数のガス混合物の高精度、低レベル濃度制御を提供することができます。この高度なユニットを使用すると、ユーザーは、プロセスの歩留まりを最大化し、生産ロット全体で一貫性を確保するために、さまざまなプロセス化学の濃度レベルを簡単に調整できます。応用材料CENTURA DPS+IIは、プロセス化学に最適な温度制御と均一性を可能にする加熱/クーリングバスを備えた厳密に制御された熱環境を備えています。その温度調整機械はプロセスの安定性または時間制御に影響を与えないで30°C/secまでの即時の温度変化率を管理するように設計されています。さらに、このツールは、ウェーハ上の最低限の応力（温度/圧力）のための高度な水冷避難用チャンバーも提供しています。さらにCentura DPS IIは、正確で安定した温度制御のためのクローズドループ制御モデルで設計された強力で統合された基板加熱アセットを備えています。その暖房装置は± 1°Cの温度安定性の評価の900°Cまで温度と作動します。この高度な加熱システムにより、ウェーハ表面全体にわたって均一なウェーハ温度が確保され、一貫したプロセス結果が得られます。AMAT CENTURA DPS+IIには、プロセス化学物質を冷却および焼戻しするための4ゾーンバブラユニットもあります。バブラチャンバー全体を精密に温度制御することにより、幅広いプロセス化学製品の温度制御を容易かつ安定させることができます。最後に、APPLIED MATERIALS Centura DPS IIには、高度な診断およびプロセス最適化ツールが組み込まれています。このツールは、プロセスデータと検査のリアルタイム監視を提供し、拡散プロセスが最適なレベルで維持されるようにします。さらに、プロセス最適化パラメータも提供しており、ユーザーはプロセスから可能な限り最高のパフォーマンスを得ることができます。