中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9213077 を販売中

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II
リアクター
製造業者
AMAT / APPLIED MATERIALS
モデル
Centura DPS II
ID: 9213077
Poly etchers Chamber A, B, C: Model: DPS II Bias generator: AE Apex 1513 13.56 MHz, maximum 1500 W Bias match: AE 13.56 MHz, 3 kV Navigate Source generator: AE Apex 3013 13.56 MHz, maximum 3000 W Source match: AE 13.56 MHz, 6 kV Navigation Lid: Ceramic lid, dual gas nozzle Turbo pump: EDWARDS STP-A3003 CV Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320 FRC: MKS FRCA-52163310, 500/500 1/4 VCR ESC: Dual zone ceramic ESC Cathode chiller: SMC POU Wall chiller: SMC INR-496-016C Process kit coating: Anodize coating Cooling: HT 200 / FC 40 Chamber D: Model: Axiom Source generator: 5000W Source match: AE Match (RF System) Throttle valve: Throttling gate valve ESC: Pedestal heater Mainframe configuration: IPUP Type: TOYOTA 100L Gas panel type: NextGen VHP Robot: Dual blade MF PC type: CPCI Factory interface configuration: Frontend PC type: 306 M Server FIC PC Type: 306 M Server (3) Load ports Atmospheric robot: KAWASAKI Single fixed robot (A3 Type) Side storage: Right and left side MFC Configuration: EAS-52A Gas name Max flow MFC type Gas 1 CL2 300 SC-24 Gas 2 NF3 50 SC-23 Gas 3 SF6 100 SC-24 Gas 4 HBR 500 SC-24 Gas 5 N2_20 20 SC-21 Gas 6 N2_200 200 SC-23 Gas 7 O2_50 20 SC-22 Gas 8 O2_400 400 SC-24 Gas 9 HE 500 SC-24 Gas 10 CHF3 200 SC-24 Gas 11 CF4 300 SC-24 Gas 12 AR 500 SC-24 EAS-52B Gas name Max flow MFC type Gas 1 CL2 300 SC-24 Gas 2 NF3 50 SC-23 Gas 3 SF6 100 SC-24 Gas 4 HBR 500 SC-24 Gas 5 N2_20 20 SC-21 Gas 6 N2_200 200 SC-23 Gas 7 O2_50 20 SC-22 Gas 8 O2_400 400 SC-24 Gas 9 HE 500 SC-24 Gas 10 CHF3 200 SC-24 Gas 11 CF4 300 SC-24 Gas 12 AR 500 SC-24 EAS-52C Gas name Max flow MFC type Gas 1 CL2 300 SC-24 Gas 2 NF3 50 SC-23 Gas 3 SF6 100 SC-24 Gas 4 HBR 500 SC-24 Gas 5 N2_20 20 SC-21 Gas 6 N2_200 200 SC-23 Gas 7 O2_50 20 SC-22 Gas 8 O2_400 400 SC-24 Gas 9 HE 500 SC-24 Gas 10 CHF3 200 SC-24 Gas 11 CF4 300 SC-24 Gas 12 AR 500 SC-24 EAS-52D Gas name Max flow MFC type Gas 1 - - - Gas 2 - - - Gas 3 - - - Gas 4 - - - Gas 5 - - - Gas 6 - - - Gas 7 O2 10000 SC-27 Gas 8 4%H2/N2 5000 SC-26 Gas 9 - - - Gas 10 N2 1000 SC-25.
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS IIは、洗練されたプラズマ補助蒸着およびエッチング操作用に設計されたin-situプラズマ処理炉です。このシステムは、高度なデバイス製造に必要な高精度の熱およびプラズマ制御を提供します。AMAT Centura DPS IIは、信頼性と再現性の高いプロセス結果を提供するために地上から構築されています。このユニットは、温度、圧力、RF電力、ガス流量および混合物などのプロセスパラメータを正確に制御します。ソースドープ型の反応チャンバーで、高出力と低出力の設定をシームレスに移行できる堅牢な電源を備えています。また、基板温度制御用のガス冷却基板ホルダーと、チャンバ内部のリアルタイムプロセス条件を測定するデジタルプローブを備えています。APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+IIは直感的なツールでもあり、リアルタイムでプログラムおよび監視することができます。RFパワーとガスフローの設定は、タッチスクリーンのグラフィカルインターフェイスで調整することができ、さまざまなプロセスパラメータをプロセス全体で監視および記録することができます。このアセットは、自動制御用のPCまたはPLCと統合することもできます。APPLIED MATERIALTS Centura DPS IIは、これらのアプリケーションのための強力なツールであり、優れたデバイス性能を維持しながら、非常に高い歩留まりを持つデバイスを生産することができます。また、過圧警報やガスミキシングモニターなどの高度な安全機能を提供し、安全で制御された操作を保証します。簡単なセットアップとユーザーフレンドリーなインターフェイスにより、AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+IIは、正確なプロセス制御と一貫した結果を求める人に最適です。
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