中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9189076 を販売中
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ID: 9189076
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2002
Metal etcher, 8"
Platform type: Centura AP
Chamber configuration:
Chamber A & B: DPS II Metal bridge chamber, 8"
Chamber C: ASP II Chamber
Process chamber:
Process kits:
DPS II Metal parts / Chamber
Ceramic Lid
ESC Type: DPS II STD CESC, 8"
ESC Power supply: DPS II STD
Control type:
APPLIED MATERIALS STD (VAT)
Chamber A: 65048-PH52-AFS1 / 0583 A-664028
Chamber B: 65048-PH52-AFS1 / 0546 A-626798
EOP Type: Monochromator
Transfer chamber:
Robot type: VHP+ Dual blade
APPLIED MATERIALS STD LCF Detector
Loadlock chamber:
SWLL Body: (2) SWLL Chambers
EFEM:
(2) Loadports
ASYST Versaport 2200
Air intake system: APPLIED MATERIALS STD Intake
FI Robot: APPLIED MATERIALS Kawasaki
Wafer align: APPLIED MATERIALS STD
Wafer out of position detection: APPLIED MATERIALS STD
Remote interface:
Components interface:
Dry pump (Transfer chamber): IPUP Pump, ALCATEL A100L
Chiller
System monitor: Monitor 1 & Monitor 2
Flat panel with keyboard on stand
Components:
Turbo molecular pump: APPLIED MATERIALS STD BOC EDWARDS
RF Power system:
Source RF generator:
APPLIED MATERIALS STD / APEX 3013
Frequency / Max power: 13.56MHz / 3KW
Bias RF generator:
APPLIED MATERIALS STD / APEX 1513
Frequency / Max power: 13.56MHz / 1.5KW
RF Match box:
Source: Navigator 3013
Chamber A & B: 0190-15168
Bias: Navigator 1513
Chamber A: 0190-23623
Chamber B: 0190-15167
Utility specification:
Gas panel type: STD
Gas panel exhaust: Top center exhaust
(12) Gas lines
Gas line tape heater (for liquid gas): BCL3
MFC Configuration:
MFC type: Digital type
MFC Maker / Model (All Chamber): UNIT MFC
Gas information:
Gas Size
BCL3 200
CL2 200
NF3 100
HCL 100
NF3 20
N2 50
HE 100
O2 1L
SF6 400
CHF3 25
CF4 50
AR 400
Axiom + chamber:
Gas Size
NH3 1000
O2 10000
CF4 750
N2 1L
Independent helium control: APPLIED MATERIALS STD MKS 649A
Electricity:
AC Rack: APPLIED MATERIALS STD AC Rack
Power supply: 3 φ, 208 V, 400 A, 50/60 Hz
System controller:
FES: FEPC
FIS: Flex3
MF SBC: Flex3
CCM SBC: 166 MHz
MF Controller:
Mainframe devicenet I/O:
Cardcage and backplane board
2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS IIは、様々な用途での先端材料加工用に設計されたデュアルゾーン急速熱炉です。パワフルなRFジェネレータを搭載しており、薄膜や多層構造、デバイスの積み重ねなどを精密に処理するための精密な温度制御により高出力を実現しています。AMAT Centura DPS IIの主な機能は、異なる材料の複数の層を基板に正確かつ正確に堆積させることです。これはデュアルゾーンのRapid Thermal Processorのデュアルゾーン構成を利用して行われます。2つのゾーンは独立しており、各ゾーンに正確な温度プロファイルを作成できます。これは、高度なコンピュータ制御システムによって監視されるヒーターを個別に制御することによって行われます。アプライドマテリアルズCENTURA DPS+IIのデュアルゾーン構成により、均一な熱分布と正確な温度制御が可能です。これは、両方のゾーンが異なる温度まで加熱されることによって行われます。RTP原子炉はまた、精密な組成制御反応のために異なる組成と濃度のガス混合物を封じ込める能力を持っています。Centura DPS IIはアクティブ冷却を使用して、各ゾーンが所望の温度に達した後にすばやく冷却し、正確かつ一貫した蒸着を実現します。このマルチゾーンRTP構成により、各ゾーンの正確なランプアップとランプダウンレートも可能になります。APPLIED MATERIALS Centura DPS IIには高度な診断機能が搭載されており、エンジニアや科学者はRTPリアクターで処理される材料を正確に監視および測定できます。このモニタリングは、精密なレイヤプロパティが必要な多層およびスタックデバイス実験で特に有用です。CENTURA DPS+IIは、精密な温度制御、精密な蒸着速度、および精密なモニタリング機能により、先端材料加工業界の科学者やエンジニアにとって貴重なツールです。この原子炉は、半導体デバイスの製造、薄膜蒸着など、多くの用途で使用されてきました。AMAT CENTURA DPS+IIの中央暖房、冷却、監視機能は、研究および工業生産において非常に貴重なツールです。
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